二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610775 待售
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已售出
ID: 293610775
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
PECVD System, 12"
Process: TEOS
(4) SELOP Load ports
FOUP: (25) Wafers
FX Robot
0200-08346 Robot blades
0090-04659 Load lock preheater
9992-00594 Slit valve door
EBARA ESR 80WN MF Pump
Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517)
0190-37371 Diffuser
KASHIYAMA SDE1203B Process pump
Chamber:
Type: PE Silane
0920-00139 RF Generator
0190-08677 RF Generator
0010-36734 Heater
9992-00594 Slit valve
0010-42371 RF Filter
0190-32100 Foreline TV
3870-06775 Foreline ISO
0040-53688 Gas box
0040-95475 Faceplate
0021-26544 Blocker
(2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408)
0200-06758 Liner ceramic top
0200-02973 Liner ceramic middle
0200-02974 Liner ceramic bottom
0021-27290 Ceramic isolator
0200-03314 Lift pins
0200-03312 Lift hoop
(2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182)
0190-40602 RPS
Gas box:
Line / Gas / Size
3 / TEOS-1 / 7000
4 / TEOS-2 / 7000
6 / NF3 / 5000
8 / Ar / 10000
9 / He-TEOS / 15000
12 / O2 / 15000
18 / Purge02 / -
19 / Purge03 / -
Liquid line temperature:
TEOS-1, 2 Injection: 150°
Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120°
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3是一種先進的熱化學氣相沈積反應器，設備齊全，可幫助用戶滿足其底層沈積需求。這種最先進的沈積設備能夠生產出多種材料的高質量薄膜，包括單晶矽、、碳、金剛石。它具有精確的過程控制、各種各樣的熱過程以及嚴格的均勻性控制功能。AMAT Producer GT3的設計采用直徑為10厘米、高度為20厘米的工藝室，使其高度可定制，非常適合廣泛的應用。高效的熱傳遞設備有助於保持基板溫度一致，這對於實現優質膜沈積至關重要。該反應堆還提供了一系列可預編程的過程，允許用戶細化其薄膜沈積，以實現最終控制。為了確保可靠和可重復的結果,GT3在基板平面內加入了快速熱退火系統,以最大程度地減少材料層之間的有害應力。這一反應堆單元還配備了AMAT專利的電弧控制技術，其設計目的是在比典型的CVD工藝更低的溫度下實現優越的沈積。APPLIED MATERIALS PRODUCER GT3除了用於先進的基底沈積外,還可容納多種材料,包括用於功率半導體器件開發的III-V材料。該機還具有最先進的電極偏置控制功能，這對於開發高性能材料至關重要。GT3中存在的寬離子源允許同時沈積兩種不同的材料。這在電氣設備的生產中特別有用，在電氣設備中，兩種材料的組合可以帶來優異的效果。此外，反應堆裝有加熱導體角整流齒輪，允許用戶精確操縱基板的加熱阻抗。生產商GT3是一種先進的化學氣相沈積反應器，提供可靠的性能和眾多可定制的能力。GT3具有廣泛的熱工程、先進的電極和嚴密的均勻性控制，是尋求優質膜沈積者的理想選擇。
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