二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610776 待售
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已售出
ID: 293610776
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
PECVD System, 12"
Process: TEOS
(4) SELOP Load ports
FOUP: (25) Wafers
FX Robot
0200-08346 Robot blades
0090-04659 Load lock preheater
9992-00594 Slit valve door
EBARA ESR 80WN MF Pump
Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517)
0190-37371 Diffuser
KASHIYAMA SDE1203B Process pump
Chamber:
Type: PE Silane
0920-00139 RF Generator
0190-08677 RF Generator
0010-36734 Heater
9992-00594 Slit valve
0010-42371 RF Filter
0190-32100 Foreline TV
3870-06775 Foreline ISO
0040-53688 Gas box
0040-95475 Faceplate
0021-26544 Blocker
(2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408)
0200-06758 Liner ceramic top
0200-02973 Liner ceramic middle
0200-02974 Liner ceramic bottom
0021-27290 Ceramic isolator
0200-03314 Lift pins
0200-03312 Lift hoop
(2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182)
0190-40602 RPS
Gas box:
Line / Gas / Size
3 / TEOS-1 / 7000
4 / TEOS-2 / 7000
6 / NF3 / 5000
8 / Ar / 10000
9 / He-TEOS / 15000
12 / O2 / 15000
18 / Purge02 / -
19 / Purge03 / -
Liquid line temperature:
TEOS-1, 2 Injection: 150°
Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120°
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3是一種領先的PECVD（等離子增強化學氣相沈積）反應器。廣泛應用於半導體工業中，用於將介電層和金屬層沈積到矽片上。它也被用於太陽能光伏、醫療設備和先進電子等其他應用。AMAT Producer GT3是一款高效、通用的工具。它采用模塊化設計，有兩個腔室，一個源腔室和一個反作用室。這種布置將前體氣體和等離子體處理與沈積過程分開。該反應堆能夠同時進行低壓和大氣壓過程化學處理，從而允許各種沈積速率和等離子體條件。其設計符合溫度、壓力和氣流監測，確保精確控制和一致的結果。應用材料生產商GT3配備了高密度磁控管和介電冷卻等離子體源。這種先進的設計提供了改進的均勻性、重復性和沈積質量。此外，它還賦予反應堆處理大型基材尺寸的能力。高溫陶瓷襯裏和頂置加熱器產生高質量的氮化物和氧化物，使其成為深紫外線和高Q介電系統的絕佳選擇。它還為敏感金屬和其他電子體系結構提供了幹凈的操作環境。生產者GT3能夠進行若幹沈積過程。它用於廣泛的過程，包括金屬化、CVD、PVD（物理氣相沈積）、ALD（原子層沈積）和MOCVD（金屬有機化學氣相沈積）。該反應器能夠達到10 nm到5微米以上的薄膜厚度，是先進設備制造的絕佳選擇。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3還能夠進行廣泛的熱處理，包括快速熱退火和快速熱處理。提高光刻膠的生產效率和工藝可靠性,是光刻膠退火的理想選擇.此外，它的高溫性能保證了良好的晶圓接觸和均勻的薄膜生長。最後,AMAT Producer GT3 PECVD反應器是一種功能強大、用途廣泛的工具.它具有廣泛的應用，包括電介質和金屬層的沈積以及其他一些先進的工藝。它是一個高效的工具，提供精確的控制和一致的結果。它是制造先進電子設備的絕佳選擇。
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