二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9238404 待售
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單擊可縮放
ID: 9238404
優質的: 2000
CVD System, 8"
(3) Twin chambers
Platform: Producer S
Wafer shape: SNNF
Mainframe:
Buffer robot type: VHP
FI Robot type: Manual
Buffer robot blade: Standard blade
RYGB Status light tower
Front end type: Manual type front end
PRI BROOKS ABM407 Front end robot
VHP Buffer robot
Transfer pump: IPX Pump
Chamber slit valve / LL Door: VAT
L/L Gauge: MKS Stand
Hard disk: Stand
Floppy disk: 1.44 M
Chamber configuration:
Chamber A, B, C: Producer S BPSG Twin
Chamber parts:
Gas feedthrough assy
Gas box
Face-plate
Pressure gauge: MKS 20 Torr / MKS1000 Torr
RF Power
RPS Type: (MKS ASTeX)
Chiller: Steel-head 1
Ozone rack
Gas panel: BPSG
Vacuum system
ISO / Throttle valve: C-PLUG
Includes:
Open cassette type
VHP Robot
IPX Pump
(3) Oxide chambers
Loadlock configuration:
Cassette type: 200 mm
Fast vent option
Power supply:
Line voltage: 208 V
Full load current: 300 Amp
Frequency: 50/60 Hz
CE Marked
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER III是一種反應器，設計用於通過化學氣相沈積（CVD）蝕刻和沈積材料，用於生產III-V和石英半導體晶片。它是一種大型機器，工作室長25.6厘米（10英寸）。反應器包含兩個主要腔室：源和等離子體，它們以所需的厚度沈積物料層。源室最多裝有四種化學前體，包含一個氣泡、一個加熱元件、一個分銷商、一個淋浴頭和一個射頻發生器。等離子體腔室包含高頻等離子體，這些等離子體是通過放置在腔室頂部的同軸天線產生的。然後將輸出氣體作為均勻、穩定的蒸氣過濾並通過淋浴頭泵送。粒子隨後與晶片表面碰撞，沈積所需的材料。AMAT Producer III使用多維工藝映射來實現晶圓或層厚度蝕刻速率的精確控制。它有一個控制系統來啟用可重復的蝕刻過程，並且可以精確修改以滿足特定的客戶要求。該反應器的設計具有批量和單片加工能力。腔室氣閘使晶片易於裝卸，從而提高了生產率。此外，APPLIED MATERIALS Producer III已經裝備了全面的保護系統，以確保安全運行。其中包括易燃氣體檢測、低溫監測和緊急關閉系統。最後，生產三號是一種高效可靠的用於蝕刻和材料沈積的反應器。它利用多維工藝映射來確保對蝕刻速率和層厚的精確控制。它是為批量和單片加工能力而設計的，具有全面的安全特性。該反應堆系統為生產III-V和石英半導體層提供了一致、高質量的結果。
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