二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARP #9282238 待售
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ID: 9282238
晶圓大小: 12"
SACVD System, 12"
Chamber A and B:
Chamber type: SACVD, Oxide BPSG
Gas configuration (SCCM): MFC
O2 (30000)
TEB (1000)
TEOS (4000)
TEPO (500)
NF3 (5000)
N2 (5000)
AR (5000)
O3 (30000)
AR (5000)
N2-Carrier (30000)
He-Carrier (30000)
RF RPS: 400 kHz
Maximum: 10 kW
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARP是一種專門的低壓生產反應堆。該反應堆主要用於形成單壁碳納米管。與傳統的化學氣相沈積(CVD)反應堆相比,它具有顯著的優勢,使SWNT的增長速度更快,直徑分布更窄。反應堆由石英管組成,石英管有三個區----一個工作區、一個種子區和一個陽極區。石英管與氮氣保持在惰性環境中,以防止樣品氧化。在種子區,為SWNTs的生長而形成種子。種子區被控制在比其他區更低的壓力下。這使得種子能夠在過程的第一部分形成。工區是反應的主要部位,受到最高溫度和壓力。在該區,納米管在催化反應的存在下生長。在陽極區,一些反應物作為蒸發層引入。該層對於納米管的形成是必不可少的。為了提供完整的工藝控制,AMAT Producer SE SACVD HARP擁有先進的溫度控制設備.這樣可以精確控制過程中的加熱和冷卻階段。它還有一個精密的發電機系統,對反應中使用的反應物數量提供精確的控制。反應堆的軟件界面包括一個直觀的用戶引導單元。這有助於建立和維護機器。強大的圖形可視化工具還使用戶能夠跟蹤反應過程中的進展。應用材料生產商SE SACVD HARP比傳統的CVD反應堆具有廣泛的優勢。它為納米管提供了更高的增長率和更窄的直徑分布。溫度控制工具和發電機設備提供的精確控制確保了每次進行反應時納米管的可靠增長。用戶指導模型和圖形可視化工具有助於使反應過程更易於設置和監控。總體而言,生產商SE SACVD HARP是那些希望生產SWNT的人的高效和可靠的反應堆。
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