二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9204008 待售
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單擊可縮放
ID: 9204008
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Twin chamber, 12"
Process: APF
Major part:
RPS: MKS FI80131(Astron ex)
HF RF Generator: 0920-00107(Apex3013)
Ceramic heater: AIN
Gas panel: 1-1/8 C-Seal surface mount
AC box: 0195-01042
Heater lift driver: 1080-00126
Pin lift driver: 0190-13840
Manometer: 20T / 100T
Throttle valve: 683B-26033
ISO Valve: 99D0654
Process kit:
Top liner
Middle liner
Bottom liner
Pumping ring
Lift hoop
AL Spacer
Gas configuration:
Gas Size(sccm) MFC Filter Valve
Stick 1 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 2 AR 5,000 UFC-8565 NAS Hamlet
Stick 3 HE 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 4 C3H6 3,000 IFC-125 NAS Hamlet
Stick 5 N2 Purge NA NA Hamlet
Stick 7 N2 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 10 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 11 N2 Purge NA NA Hamlet
Stick 12 NF3 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 13 AR 10,000 UFC-8565C NAS Hamlett
Aluminum slit insert missing
Lift ring(Fixed type): Localized
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是一種先進的PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）反應器，設計用於生產耐化學和物理損傷的優質薄膜。該反應器具有沈積氮化物、氧化物、介電材料以及金剛石和非晶態材料薄膜的能力。它具有強大、穩定和準確的數字驅動器電源,能夠精確控制沈積速率和均勻性。這些特性使得AMAT Producer SE成為生產用於多種應用的各種薄膜的理想選擇。APPLIED MATERIALS Producer SE的主要部件是其腔室、沈積源、支撐和自動化。該腔室設計用於高密度PECVD操作，比傳統的CVD系統具有更高的沈積速率。它是由不銹鋼製成，並有幾個真空密封件在系統運作時維持真空。該源位於反應堆頂部，包括微波和射頻等離子體發生器、氣體輸出閥以及基板支撐。微波發生器配有頻率控制單元，可精確控制微波能量的功率和頻率。射頻源提供額外的電源並增加沈積速率。基板支架由不銹鋼框架和氧化鋁陶瓷窗組成，保證基板的均勻加熱。自動化系統包括一個用於裝卸基板的計算機控制機器人臂，以及用於控制沈積過程的過程自動化軟件。Producer SE是生產優越薄膜的高度先進平臺。它能夠制造出極耐化學和物理降解的薄膜，使其成為許多工業應用的絕佳選擇。它還能夠沈積性能和可重現性的均勻薄膜。強大的數字驅動器電源也使其成為生產設備和新興材料的理想選擇，用於下一代半導體設備。
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