二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9215461 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9215461
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
CVD System, 12"
FI Robot: KAWASAKI (Vacuum EV missing)
Chamber A: Nano cure (UV Cure)
Chamber B: BD (BlackNN diamond)
Chamber C: Blok (Barrier low-k)
Gas: IGS Type
UV Power supply rack: ASTEX Generator
Chamber A:
Gas / Model / Flow
Ar / UFC-8565 / 30slm
He / UFC-8565 / 30slm
Chamber B:
Gas / Model / Flow
O2 / UFC-8565 / 2slm
O2 / UFC-8565 / 500sccm
He / UFC-8565 / 5slm
TMS / UFC-8565 / 750cc
He / UFC-8565 / 5SLM
He / UFC-8565 / 12slm
NF3 / UFC-8565 / 3slm
Ar / UFC-8565 / 3slm
He / UFC-8565 / 5slm
He / UFC-8565 / 10slm
Chamber C:
Gas / Model / Flow
O2 / UFC-8565 / 3slm
O2 / UFC-8565 / 500sccm
He / UFC-8565 / 5slm
O2 / UFC-8565 / 10slm
He / UFC-8565 /12slm
NF3 / UFC-8565 / 3slm
Ar / UFC-8565 / 3slm
He / UFC-8565 / 5slm
He / UFC-8565 / 5slm
Missing gas for chamber B & C:
mDEOS
ATRP
Missing parts:
PC
Flex
Controller unit
MF Motion controller CPU board
LFC (mDEOSx2, ATRTx2)
Chamber B&C:
Heater power filter
Chamber IO controller unit
Lid assy
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是下一代原子層沈積系統，設計用於高通量生產和成本節約。它具有獨特的模塊化架構，高吸收率的處理室，以及控制算法來增加晶圓均勻性。這樣可以在不影響質量的情況下實現更快的吞吐量和更大的成本節約。AMAT Producer SE的模塊化架構使其成為晶圓厚度均勻性的經濟高效解決方案。它提供了為滿足任何生產量需求而定制的靈活性。其獨特的多區設計允許並聯反應堆控制和更大的過程參數靈活性，以提高吞吐量。此外，可以配置復雜的反應堆功率剖面，以增強三維均勻性。應用材料生產商SE的高吸收率工藝室有助於最大程度地減少晶圓均勻性測試過程中的失真。它能夠在晶片上均勻沈積氮化物、氧化物和其他材料。該系統還具有板載計算機控制器，便於編程和控制。這增強了可靠性和可重復性,並允許在操作參數之間快速切換。生產商SE還配備了先進的控制算法，以確保晶圓厚度均勻性。這包括一個多區域共聚焦反射率系統，可以對沈積材料特性進行精細的詳細控制。它也可用於沈積後處理，如應力管理和側壁輪廓控制。這有助於確保整個晶片的均勻性。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE非常適合高通量生產和節省成本。其模塊化的結構、高吸收率的工藝室以及可靠的控制算法，使其成為生產優質薄膜的經濟高效可靠的選擇。它是大批量生產運行的理想選擇,有助於降低總擁有成本。
還沒有評論