二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9215469 待售
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ID: 9215469
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
CVD System, 12"
Process: SA-USG
(2) Twins
FI Robot: KAWASAKI
Chamber configuration: Chamber-A,B
RPS: MKS ASTRONex FI80131
Heater: ALN
MKS AX8407A Ozone generator
Gas delivery
Chamber A,B:
Gas / Size / Model
O2 / 30slm / Unit 8526C
N2 / 50slm / Unit 8565C
He / 30slm / Unit 8565C
NF3 / 7slm / Unit 8565C
Ar / 15slm / Unit 8565C
TEOS / 7g/min / STEC LF-A40M-A-EVD
Missing parts:
Noise filter
RPSC Line
Lid cover
HDD
Floppy
H/E
Chiller
OTF
iPump
INTLK PCB
Lid hinge
Heater lift assy
Gas: N2
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是一種半導體反應器,旨在讓客戶實現更薄的全晶片和均勻的薄膜沈積。該反應器非常適合生產超級集成電路和先進的存儲設備。反應堆利用高水平的過程控制來確保可靠和可重復的晶片。該工藝室采用不銹鋼襯裏,耐用,易於重新配置。該室還集成了工業級真空系統和隔熱窗。這種絕緣有助於減少能量損失,從而導致更好的過程控制。該腔室還提供改進的晶片裝卸和更好的基板預對準。該工藝室配有失活器,以確保不同晶片運行之間的最佳清潔。該工具具有先進的雙區域控制設備,帶有旋轉停用系統和靜態停用單元。這臺機器提供優越的工藝配方,可以調整,以達到最大的產量和性能。反應堆設有隔離區,以降低晶片對晶片工藝汙染的風險。它具有先進的原位等離子體發生器,具有高度可配置的控制體系結構。這種原位等離子體功能通過減少與晶圓清潔相關的變量數量來提高工藝產量。反應堆的熱壁設計實現了低熱梯度的高溫。它在小基板上提供精確的溫度控制,在大基板上產生優異的熱均勻性。熱墻還能提高能源使用效率。AMAT Producer SE反應堆上使用的真空工具確保晶片在精確的真空條件下處理。真空資產采用渦輪泵、旋轉葉片泵、機械助推泵的組合。該組合確保了高水平的過程穩定性和可重復性。反應堆配備了提供實時診斷和數據訪問的先進遠程監控模型。它還提供了詳細的流程日誌,以簡化操作和維護設備性能。遠程監控設備還可以改進故障排除和流程優化。
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