二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9361863 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Producer SE是一種先進的半導體反應器，旨在提供最大的蝕刻速率、均勻性和靈活性。它是大規模生產半導體晶片的高通量應用的理想選擇。AMAT Producer SE的核心是其增強溫度控制（ETC）設備,該設備針對高通量進行了優化,具有沈積、蝕刻、灰化和冷卻4個處理室。該系統能夠提供精確的溫度控制，並保持每個單獨腔室的最佳熱分布。PECVD（等離子體增強化學氣相沈積）單元用於應用材料生產商SE的沈積過程。這利用射頻驅動的等離子體以高速率沈積均勻的材料層，利用真空中氣體混合物的電子轟擊。這可以包括氮化矽、二氧化矽、低k或高k電介質等材料。生產商SE的幹蝕刻室是進行材料蝕刻的地方。它針對高通量應用進行了優化，並利用了由高功率射頻驅動的電感耦合等離子體（ICP）。這樣就可以實現精確、均勻的蝕刻工藝，具有最小的載荷效應和最小的顆粒汙染。蝕刻過程還可以包括利用具有多個閾值的400W ICP蝕刻反應堆，以允許在高度復雜的3D結構上進行不同的蝕刻過程。經過處理的材料沈積後，在AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE進行灰化處理。這涉及到對沈積層的高溫去除，可以達到高達1000 °C的溫度。這有助於確保清潔薄膜和薄膜的高效再生長,以便進一步加工。最後，AMAT Producer SE的冷卻室設計為快速而小心地冷卻晶片。此冷卻步驟很重要,因為晶圓的熱剖面會影響工藝結果。這是針對最小時間內的最大冷卻而優化的,旨在降低熱應力並提高晶圓產量和性能。歸根結底，APPLIED MATERIALS Producer SE是一種先進的半導體反應器，旨在提供最大的蝕刻速率、均勻性和靈活性。其增強型溫度控制機及其優化的沈積、蝕刻、灰化和冷卻室為復雜的3D結構提供了最大的吞吐量,同時最大限度地減少了顆粒汙染並保持了熱剖面,以實現最佳性能。