二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #166757 待售

AMAT應用材料反應堆（Advanced Materials Atomic Layer Reactor System）是化學氣相沈積（CVD）反應堆的先進形式。這些系統能夠在分子水平上制造材料薄膜。AMAT/APPLIED MATERIALS反應堆生產的薄膜可用於制造半導體器件，如晶體管、二極管和電容器。反應堆由兩個主要組件：側壁源和等離子體源.側壁源由含有氣體混合物的兩個不銹鋼管狀元件組成。這種混合物被加熱，離子隨後通過管狀元素加速進入等離子體源。等離子體源由一個CuNiTi室和一系列電極組成。這些電極要麼穿孔，要麼有一系列喉孔，當氣體混合物被電離時產生等離子體場。AMAT反應堆達到高達1200 °C的極高溫度，這對於保持室內的均勻熱分布很重要。這種均勻的熱分布有助於確保薄膜均勻沈積在晶片上。這些反應堆中的高溫還允許底物暴露於高濃度的反應物氣體和等離子體中。這種組合允許更高效、更快和均勻的薄膜塗層到基板，提供一致和可靠的半導體器件性能。對於沈積薄膜，沈積氣體前體和反應物氣體均以受控方式引入腔室。兩種氣體混合物隨後被電極激活，引起反應，有助於在晶圓上形成薄膜。薄膜在被冷卻劑冷卻後取出腔室，提供現成的均勻膜。應用材料反應堆對於生產用於現代電子和計算的半導體越來越重要。隨著半導體技術的不斷進步和器件尺寸的減小，像AMAT/APPLIED MATERIALS反應堆這樣的薄膜沈積能力對於滿足需求至關重要。