二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293649500 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II是一種先進的物理氣相沈積（PVD）反應器，設計用於微電子和半導體制造應用。此腔室增強了當前的Endura II平臺,並通過增強的控制、精度和效率進一步實現了更薄和更小組件的創建。AMAT PVD Endura II室的設計目的是在動態、具有挑戰性的環境中實現廣泛的沈積特性。堅固的腔室配有先進的組件和控制，在沈積過程中允許更高的準確性和可重復性。其先進的前饋和反饋控制，配合閉環動態壓力控制，在廣泛的應用條件下實現快速響應和穩定運行。該腔室的基本壓力低至1x10-7 Torr，具有可靠的源密封和一個充滿氦氣的柱式腔室外殼，產生了卓越的性能和堅固的金屬蒸發過程。該室配有各種源和氣體處理系統，以及自動源高度調節器和高度可配置的墻壁和天花板加熱器。這樣就能夠精確控制層厚、溫度和均勻性，並在難以應對的沈積挑戰中實現最大保形性。適用於Endura II的APPLIED MATERIALS PVD Chamber也允許對濺射過程進行更大的定制。其離子束輔助沈積和離子蝕刻模塊與其他系統相比，促進了更大的濺射均勻性，此外還提高了沈積速率，改善了表面覆蓋率，對沈積材料的物理成分和電性能進行了更多的控制。該室還設計方便地融入到現有的Endura II生產線，以及從實驗室設置擴大。采用經過時間測試的蒸發算法和先進的濺射沈積輸送系統，可提高分批處理的效率和可靠性。總體而言，用於Endura II的PVD腔室在沈積處理方面提供了更高的控制和精度，從而產生了更高質量的微電子元件和更高效的生產工藝。其組合的特性、精密元件和先進技術使公司能夠提高制造生產線的精度和速度。