二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664709 待售

AMAT PVD室專門設計用於Endura II反應堆設備。這個腔室可以方便地進入整個內部，以最大的效率，同時容納各種各樣的基板尺寸。它采用離子淋浴，提高了光照的均勻性，提高了晶圓表面的膜均勻性。該設計允許垂直和水平沈積，使得腔室高度通用不同的應用。堅固耐用的淬火管理系統控制冷卻,在沈積過程中提供均勻的薄膜厚度.該單元在四個PVD（物理氣相沈積）鍍層過程中提供了穩定性和可重復性。它具有集成的安全系統和純反應性氣體去離子器（PRGD）確保在沈積過程中沒有氣體雜質。反應室還配備了二維線性掃描運動機，移動基板以增強面積均勻性。腔室有大的支撐桿和基座，保證基板定位的準確性。該腔室能夠精確控制材料在基質上的劑量和通量，確保穩定和可預測的沈積速率。三維自動運動工具有助於實現批處理運行之間的均勻性。該資產還增加了幾個自定義運動和冷卻選項,從而提供了靈活性。反應室可用於廣泛的應用。其中包括集成電路制造、組件互連以及表面處理，如清潔、平面化和氧化。適用於廣泛塗覆銅、鋁、鈦、鈷、鉻、鈀、退火鎢等材料，采用電沈積、反應性濺射沈積、陽極蝕刻和離子轟擊沈積等精密工藝。最後，用於Endura II反應堆模型的APPLICED MATERIALS PVD室是一種堅固可靠的設備，旨在為各種應用提供精確和快速的工藝。它是研發用途的理想之選，滿足穩定性、重復性、可靠性和高效沈積工藝的工業要求。