二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664711 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II是一種先進的物理氣相沈積反應器，設計用於薄膜沈積。該設備采用獨特的專利技術，將保形薄膜沈積在幾種基材的大面積上。該系統的多形腔室提供了無與倫比的均勻性和保形性，允許均勻的薄膜沈積在基板的整個區域。通過設計創新的腔室幾何形狀和優化的氣流管理，優化了前體輸送和可靠的腔室清潔度。腔室設計結合了擴大的基底-源距離、降低的腔室高度和增強的氣流管理機器，以確保可靠的薄膜沈積過程。該室具有與原料分配工具集成的特點，可配置各種原料以及一系列升華和蒸發過程。它還具有先進的安全和控制功能,並具有用於保護人員和設備的自動化過程控制資產。該模型還具有獨特的先進硬件輔助過程監控設備，內置診斷和過程參數報告。該腔室設計用於多種應用領域，如摻雜半導體材料、金屬氧化物薄膜、聚合物和陶瓷材料。該系統能夠在可控工藝參數的情況下對這些材料進行可靠的沈積，從而在大面積上實現高均勻性的可重復、高質量的薄膜。AMAT PVD室的Endura II是一個先進的單元，提供高水平的性能和控制薄膜沈積。該機具有多種功能和安全系統,可在多種應用領域提供可靠、可重復的結果。腔室設計提供了優化的工藝參數、卓越的均勻性和可靠的沈積，使其成為最具挑戰性的薄膜沈積工藝的理想工具。