二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9202555 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一種物理氣相沈積（PVD）反應器，專門設計用於Endura平臺。該腔室用於將薄半導體薄膜沈積到半導體晶片和其他基板上。AMAT Endura的PVD腔室具有鐘形結構，頂部裝填設計和壓力裝填鎖室。設計有一個大的底部穹頂和兩個較小的頂部穹頂，用於裝卸基板。這種設計允許在沈積過程中方便地接觸基材和晶片。這些腔室由高級不銹鋼制成，以確保性能和可靠性。Endura設備還利用模塊化磁場發射系統，使氣體註入到設備的等離子體中。這允許在沈積過程中使用多種氣體，包括惰性、反應性和稀有氣體。如果所需的氣體不可用,則計算機具有用戶對自定義氣體配置進行編程的能力。該工具還有一個可選的電荷交換資產，旨在最大限度地減少電荷汙染，最大限度地提高沈積均勻性。該室還包含一些集成的安全功能，如傳感器以檢測壓力的突然變化，以及鎖定功能以防止使用錯誤的氣體操作。設計了安全功能，以確保腔室的安全可靠運行。除了腔室之外，Endura平臺還包含電源、控制器和饋通連接等其他組件。這些元件與APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura的組合使使用者能夠製造高品質的晶圓和基板。微調參數和處理過程的能力為用戶提供了為各種應用程序生產自定義材料所必需的靈活性。該腔室已被用於包括半導體、LED、RFID和MEMS技術在內的多種行業。最後，PVD Chamber for Endura為用戶提供了在基板上精確沈積薄膜的方便可靠的能力。該室徹底改變了沈積過程，使用戶能夠為各種應用制作材料。腔室的簡單和模塊化設計允許對工藝進行調整和定制，使其成為可靠和通用的PVD反應堆。