二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 待售
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ID: 9275254
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
12"
Process: WSI
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Heater: 0010-27430
Adaptor: 0040-98657
Manometer: 1350-00255
ISO valve: AVT-150M-P-03
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC
N2 100
AR 200
AR 20
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF
No matcher
No defective power supply
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一種專為物理氣相沈積（PVD）設計的反應器。這座反應堆利用難以獲得的前體材料將各種薄膜沈積在眾多的基板上，包括金屬、塑料、陶瓷和玻璃。AMAT PVD Chamber for Endura是一種高性能的工具，用於將薄膜沈積在薄而均勻的層中。它具有兩區設計，允許用戶控制基板溫度和周圍大氣，以優化沈積過程。這允許精確的薄膜厚度控制,這對於許多PVD應用至關重要。腔室包括高真空環境，使反應溫度達到650 °C。該室還具有獨特的低氣壓能力，可將汙染風險降至最低。其較大的沈積面積結合溫度和壓力控制，使薄膜結構得以均勻地增強。此外，PVD室采用定制氣體面板，允許引入沈積所必需的反應性氣體。另外，該面板可以控制反應室內惰性氣體和反應性氣體的混合物。APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura提供過程控制和理解,從而實現最先進的設備性能。該腔室還能夠在電源設備、內存設備和光電設備行業中應用廣泛的材料和工藝條件。PVD Chamber for Endura是先進PVD應用的理想工具，允許沈積需要精確沈積參數和溫度控制的薄膜。該腔室結合了精度、均勻性、表面完整性等優點及其獨特設計的魯棒性。
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