二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275263 待售
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ID: 9275263
晶圓大小: 12"
12"
Process: ESIP
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Adaptor: 0040-99333; 0040-99334
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-32845
ISO valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF.
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 50
AR 200
No heater
No matcher.
AMAT PVD Endura反應堆是一種最先進的物理氣相沈積（PVD）室，用於沈積高質量、專用金屬等薄膜。該腔室由一個不銹鋼圓柱形反應體積組成，配有功率和射頻耦合的進給通量。它設計用於在單個進程運行中處理多個晶片,通常直徑可達6「-8」。腔室可配備多種材料源選項，包括濺射、蒸發和磁控管源。反應體積連接到腔室的控制側，該側容納電源、工藝前和工藝後的過程監測，如材料傳感器，以及真空泵和壓力表。系統中集成了一臺計算機,以便在沈積周期中自動調頻和調電。腔室的溫度範圍在5-350攝氏度之間，可加壓至1.8毫巴。PVD反應通過維持腔內溫度和壓力的兩級渦旋真空泵系統在腔內保持並耗盡，從而更好地控制沈積過程。該室還配備了質量控制檢查，如氣體顆粒檢測，以確保沈積物的質量和準確性。腔室由高頻射頻電源供電，能夠向晶片表面輸送高達500瓦的功率。腔室也可以在脈沖模式下操作，允許更復雜薄膜的脈沖沈積。它還能夠在大面積生產厚度精確、均勻的薄膜。恩杜拉反應堆是沈積各種先進材料的有力工具，如陶瓷、氮化物、合金、金屬和聚合物。它的多用途設計在不犧牲性能的情況下適應了大範圍的基材尺寸，使得復雜的層能夠一致地沈積在多個晶片上。恩杜拉反應堆的一套廣泛的能力，如精確的厚度控制和均勻性，使其成為市場上最先進的PVD室之一。
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