二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275281 待售
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ID: 9275281
晶圓大小: 12"
12"
Process: IMP TiN
Magnet
Matcher
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0010-43626
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 150
AR 200
No wafer lift motor
No hot ion / Pirani gauge.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura實現了半導體器件制造和其他先進技術應用的精密薄膜沈積。該反應器腔室的設計滿足晶片級和模具級工藝最具挑戰性的要求，需要高速率、高產率和高性能的薄膜沈積。該室的設計旨在促進快速和高效的聚氯乙烯工藝，並提供各種備選方案，以適應任何生產環境的需要。Endura腔室具有自動晶片傳輸和處理功能，腔室頂部和底部均帶有環境密封。這是為了盡量減少進入該過程的大氣氣體。提供了專門的夾緊系統,這樣就可以從一個晶圓尺寸快速切換到另一個晶圓尺寸,而無需進行任何物理調整或重新配置。恩杜拉反應器室還有一個獨特的兩葉快門，允許晶片在加工過程中快速進出。這將對工藝環境的汙染降至最低。這些百葉窗中的第一個是在每個晶圓循環開始時移動到位的保護門，阻斷了工藝室外顆粒物的形成。第二片葉片位於靠近氣體入口的位置，用於調節基板與基板之間的間距，以實現均勻準確的沈積。腔室可以配備一系列特定於過程的氣體入口，允許精確的氣體輸送和控制，從而在整個過程中產生統一的成分。加熱元件是為快速斜坡上升/下降速率而設計的，能夠準確地控制基板溫度和crucible溫度。這提供了在廣泛的參數範圍內調整工藝溫度、摻雜輪廓和組成的靈活性。AMAT PVD Endura室是需要精密薄膜沈積工藝的理想解決方案。該腔室提供可靠和可重復的過程變量控制、嚴格的環境控制和快速（8秒/晶圓）處理速度。它是生產先進半導體器件和其他需要高吞吐量和可重復性能結果的應用的理想選擇。
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