二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275283 待售
網址複製成功！
ID: 9275283
晶圓大小: 12"
12"
Process: IMP TT
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0010-43626
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
No Matcher
No hot ion / Pirani gauge.
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一種化學氣相沈積反應器，用於半導體工業中薄膜和其他材料的沈積。該室設計為在真空沈積系統環境中工作，由工藝室、固定環、有源電極、高頻感應電源、真空設備和其他必要部件組成。該工藝室有不銹鋼外壁，內壁高度拋光，確保了盡可能高的薄膜質量。它設計為防漏且具有可調的孔徑以實現過程控制。它還具有一個固定環，有助於保持腔室牢固地固定。有源電極負責向等離子體增強沈積過程提供必要的輸入，由高頻感應電源控制。真空系統有助於提供沈積過程所需的必要真空水平，通常在10-6 Torr範圍內。為了確保盡可能取得最佳的工藝結果，AMAT Endura PVD會議廳配備了一些創新功能。其中包括可傾斜氣體噴射器、可定制的Effusivity監控單元、浮點控制機、閉環濺射槍控制、離子源和可編程偏置電源。此外，會議廳的設計易於升級，使用戶能夠跟上不斷變化的需求，同時確保過程的長期穩定性。總體而言，APPLIED MATERIALS PVD Endura室提供了一個高效、可靠和通用的先進腔室，使用戶能夠在許多生產周期內研制出精確可靠的薄膜。從大學實驗室到半導體行業，先進的功能使該室成為各種用戶的理想選擇。PVD Chamber for Endura具有成本效益和可靠的性能,是滿足許多薄膜要求的完美解決方案。
還沒有評論