二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275288 待售
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ID: 9275288
晶圓大小: 12"
12"
Process: RFxT Cu
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0041-06142; 0041-25104
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: PCG55003310-00288
Pedestal integration box: 0010-28071
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
AR 20
AR 200
No Cryo pump.
AMAT（應用材料）AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一種高性能物理氣相沈積（PVD）反應器，旨在滿足半導體工業的嚴格要求。此模塊化平臺為各種應用程序提供了一系列的熱、化學和物理處理功能。該腔室具有堅固的設計，為各種金屬沈積和材料加工需求提供了寬廣的工藝窗口。它最多可容納四個流程模塊，允許用戶快速重新配置和調整布局，以適應新技術或應用。腔室的模塊化結構和可重新配置的布局使最終用戶能夠快速適應過程變化，從而實現更快的技術過渡。PVD腔室由多種工藝氣體提供動力，包括濕式和幹式沈積，並具有自動調節閥和質量流量控制器。Endura還設計了先進的冷卻系統,以最大限度地提高整個過程模塊的熱均勻性,消除熱點並確保上層沈積。PVD腔室能夠沈積各種金屬和材料，如銅、鎢、鋁和鈦。它還提供了許多獨特的工藝能力，例如高速率濺射沈積，用於在先進的基板上沈積高質量的塗層。該腔室還具有可編程選項，用於改變陰極直徑和目標速度，以實現復雜的形狀沈積輪廓和薄膜特性。密室本身被一個電子櫃包圍，該電子櫃裝在環境級絕緣聚氨酯面板中，確保對環境的影響最小。機櫃中的控制器鏈接到XPS系統，允許壓力、溫度和工藝參數被自動調節和監控。此外，該腔室通過用戶友好的觸摸面板操作，使用戶能夠輕松管理參數、跟蹤配方和監控腔室系統。總體而言,AMAT PVD Chamber for Endura是半導體生產的理想選擇,具有靈活的設計、強大的工藝能力和易於操作的特點。無論您是在存放各種各樣的金屬和材料,還是在尋找更復雜的工藝特性,APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura都能為您的生產需求提供可靠而強大的解決方案。
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