二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275291 待售
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ID: 9275291
晶圓大小: 12"
12"
Process: RFxT Cu
Magnet
Heater: 0010-42030
SMITOMO Cryo pump
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0041-06142; 0041-25104
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: PCG55003310-00288
Pedestal integration box: 0010-28071
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 010-41423
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
AR 20
AR 200.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是專門為半導體加工而設計的物理氣相沈積（PVD）反應器。它是一種經濟高效、可靠且靈活的內聯設備,能夠為各種設備（包括高級邏輯和內存產品）提供高性能的沈積過程。Endura的PVD室配備了自動機器人裝載機，通過精確對準和即時晶圓處理提供最高吞吐量。該腔室通過嚴格的過程控制和可重復性來提供良好的過程穩定性。先進的機器人技術可以對PVD工藝參數進行高精度調整,從而最大限度地減少缺陷並提供高質量的外延膜。Endura PVD腔室提供均勻、清潔的覆蓋面，對各種氣體進行均勻操作，並與多種材料兼容，包括鋁、銅、鎢等，尤其是矽中的鋁含量（SiGe）。Endura PVD室利用高密度等離子體沈積高保形和無缺陷的薄膜層。該室可與大氣和真空門系統相結合，同時沈積和蝕刻。腔室是隔熱的，所以傳熱是一致的和最小的，確保整個腔室和整個晶片的溫度穩定。Endura PVD腔室采用均勻氣體分布（UGD）單元來控制氣體流動和每晶片生長速率，均勻覆蓋。Endura PVD腔室具有可編程的光學機器,允許各種光學配置選項,並具有自動對準和校準功能。Endura PVD腔室的設計需要較低的維護要求,旨在提高對過程的能見度,從而能夠更好地即時調整過程,以優化產量並探索新的過程可能性。此外,Endura PVD腔室在緊湊的空間內提供高通量。
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