二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Siconi R2 #9375625 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2反應堆是一種CVD（化學氣相沈積）爐，用於在半導體晶圓等薄膜器件等基板上制造薄膜。AMAT Siconi R2的設計目的是提供可靠和可重復的沈積結果，具有精確的薄膜厚度、均勻性和組成精度。該爐采用溫度控制，采用石英爐膛設計，在整個晶片平面上支撐和保持+/-3°C的溫度均勻性，同時提供均勻的沈積以及優異的薄膜結晶度、折射率和介電常數。它還包括一個雙排氣系統，能夠更好的溫度和壓力控制，並允許改善沈積均勻性。APPLICED MATERIALS Siconi R2還有一個低溫無底氣面板，允許快速流動的電池交換和使用多種試劑的能力。反應堆還支持低壓領結和狹縫噴射器、氣體混合電池以及預熱和後加熱，以提高膜性能。Siconi R2除了具有沈積能力外，還包括工藝分析和監測，以確保取得高質量的成果。反應堆設有實時/運行結束監控，其中包括現場系統診斷，以檢測過程中的問題。它還包括一個板載系統,可以收集、存儲和分析性能數據,以創建自動化的流程審核跟蹤,並提高CVD流程的可靠性和可重復性。AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2還支持廣泛的晶片基板，包括單晶、非晶、化合物和氧化物材料，使其成為多種應用的理想選擇，包括內存和邏輯器件制造、納米結構和高k介電層。總體而言，AMAT Siconi R2提供了可靠和可重復的CVD沈積，具有精確的薄膜厚度和均勻性，為許多不同類型的工藝提供了高質量的結果。該反應堆具有多種特點，能夠改進工藝性能和監測，使其成為薄膜沈積應用的一種通用和可靠的選擇。