二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SIP Chambers for Endura CL #293664859 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS SIP Chamber for Endura CL是一種反應器，設計用於在真空環境內進行化學氣相沈積（CVD）、物理氣相沈積（PVD）和機械化學過程。用於制造半導體器件，包括晶體管、存儲器、集成電路等微電子元件。SIP室由幾個相互連接的部件組成，包括反作用室、排氣設備、熱壁爐、入口和出口歧管、加熱和冷卻元件、真空泵和控制器。它呈圓柱形，通常由不銹鋼和鋁構成。反應室內徑約8英寸，垂直高度約4英尺。腔壁加熱至300至1200 °C的溫度，允許低溫化學。熱壁爐允許反應室均勻加熱。加熱元件位於爐的內壁，由陶瓷、石墨或金屬材料組成。爐子裏裝有一個用於精確溫度控制的熱電偶.通過設定氧氣流量可以進一步控制這一過程。真空泵在反應室內保持所需的背景壓力。該系統采用冷凍泵，可達到0.1 Torr的基壓。AMAT SIP Chamber for Endura CL是為了在化學、溫度和吞吐量等方面的多功能性而設計的。它提供精確的沈積控制，具有良好的均勻性和可重復性。該裝置能夠生產廣泛的薄膜，如金屬硫屬化物、III-V化合物和介電材料。APPLICED MATERIALS SIP Chamber for Endura CL為制造半導體微電子元件提供了一個安全高效的平臺。它確保了一致的產品質量、改進的設備性能和優化的過程參數。該機器非常適合各種應用，包括微電子制造、光學、光電子和光電子封裝。