二手 AMAT / APPLIED MATERIALS T002-00360 #293655401 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360是一種計算機控制的等離子體反應器，用於化學氣相沈積（CVD）工藝。用於蒸發矽、氮化矽、鈦和鎢等各種材料，形成薄膜塗層。AMAT T002-00360有一個氣體混合物設備，可以根據個別工藝要求量身定制，包括直接發熱或直接產生等離子體的選項。應用材料T002-00360反應器設計用於在整個腔室空間輸送均勻氣體混合物，確保均勻沈積。這種堅固、可靠且易於操作的反應堆可以在大型晶片基板上提供一致且可重復的薄膜沈積物。T002-00360具有計算機控制的壓力和氣流控制系統，可用於最佳和可重復的工藝條件。它采用擴散型氣體分配方法，以確保蒸氣在基板上的均勻流動。AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360還可以配備石英管，通過該石英管將蒸發材料添加到等離子體中。該單元的堅固設計確保了一個穩定和一致的過程，並且該過程參數的靈活性允許各種材料的沈積。AMAT T002-00360還采用基於激光幹涉測量的端點檢測（EPD）機器,用於準確檢測沈積過程的結束,優化沈積材料的化學計量。環保署亦使用該工具監察沈積膜的輪廓，以確保達到理想的沈積均勻性。APPLIED MATERIALS T002-00360適用於所有低溫PECVD、ALD和CVD應用。重要的是要註意，T002-00360需要例行維護和重新校準，以確保長期的一致和可重復的結果。優質材料的使用也將確保沈積層的均勻性和性能在整個單元的使用壽命中得到保持。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360是用於各種CVD工藝的先進、可靠和可靠的等離子體沈積資產。它在大型晶片基板上提供統一的覆蓋範圍，並配備創新技術以提高準確性和效率。AMAT T002-00360也非常靈活,允許根據應用程序自定義流程參數。定期維護和重新校準,APPLIED MATERIALS T002-00360是先進的CVD工藝的絕佳選擇.