二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD #9139463 待售

AMAT/應用材料Ultima HDP-CVD是一種先進的化學氣相沈積反應器,旨在為Advanced Materials客戶提供高質量的薄膜層沈積。該反應堆的一個關鍵特點是其高密度等離子體（HDP）能力。HDP源的配置允許在整個基板上進行一致和均勻的等離子體激發，提供均勻且無缺陷的薄膜層，具有突出的可重復性。使AMAT Ultima HDP-CVD成為薄膜沈積的一個有吸引力的選擇的其他特點包括它的自動化工藝優化程序，它可以提供對工藝參數的精確控制，以及它的高電容主動等離子體電源，確保在廣泛的工藝氣體中穩定而堅固的等離子體激勵。應用材料ULTIMA HDP-CVD利用熱壁光源，采用高頻等離子體激發技術。這產生了一種均質等離子體，促進了沈積優質薄膜層所必需的持續化學活性。與冷壁源不同，Ultima HDP-CVD中使用的熱壁型不需要外部加熱的外殼來達到所需溫度。這簡化了操作，節省了能源。反應堆能夠生產各種構型的薄膜材料，包括單層至多層。它還建立在一個工業級機器人工藝平臺上，允許沈積環境的精確工程。這種設計允許用戶自動化沈積過程，減少了對體力勞動的需求，增加了系統的吞吐量。該系統被設計為完全集成在工廠環境中,從而實現了高效的生產過程,並且維護的停機時間最短。此外,該軟件還提供高級安全功能,以確保整個過程的安全操作。AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD也與大多數供應源兼容，可以與一系列的基板搭配使用。這使得它適合於多種應用，例如生產集成邏輯和內存設備、納米結構和薄膜光學元件。綜上所述，AMAT Ultima HDP-CVD是一種先進的化學沈積反應器，具有良好的沈積質量和可重復性。它具有一個熱壁等離子體源，它提供了一個均勻的等離子體，並在一定溫度範圍內運行，從而實現了廣泛的過程。它的自動化過程優化功能和集成設計還可以提高效率和降低維護成本。APPLICED MATERIALS Ultima HDP-CVD是許多應用的一個吸引人的選擇，包括集成邏輯和內存裝置、納米結構、薄膜光學元件的制造。