二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9236849 待售

AMAT/APPLIED MATerials Ultima X是一種高溫超高真空沈積設備，設計用於精密薄膜形成。該系統使用感應耦合等離子體（ICP）源，使幾種材料在半導體基板以及其他材料上的高精度薄膜沈積。該單元設計為實現極其精確的薄膜厚度剖面，采用可選的激光幹涉儀和大功率石英晶體監視器來控制薄膜厚度沈積。AMAT Ultima X反應堆有計算機控制、密封的工藝室，並配有單源等離子體源和整體排氣機。此工具具有從室溫到1050°C的各種可調節工藝溫度,並且可以達到高達200 nm/min的沈積速率。這種高沈積速率使得它特別適合於需要快速沈積速率的應用，如銅屏障/襯裏應用。APPLICED MATERIALTIES Ultima X資產有一系列可用的附件和功能，其中包括各種可以精確控制各種氣流和壓力的氣體控制系統，以及用於沈積高縱橫比結構的無電極動力平面源。超高真空（Ultra-High Vacuum，UHV）模型可以提供10-7 Torr的基礎壓力，用於以最小的汙染精密沈積超薄層。Ultima X還包括各種計算機輔助設計（CAD）軟件包,可輕松對沈積作業進行編程。除了計劃中的沈積作業外，用戶還可以嘗試沈積作業並根據需要進行微調。您可以在此設備上運行單個晶片/腔室級沈積或多個晶片/腔室級沈積。AMAT/APPLIED MATERIALTIES Ultima X是銅、鈦、全新、石墨、鋁、的薄膜沈積以及其他材料的理想選擇，是研發、高端制造、生產系統的理想選擇。它設計靈活，是滿足復雜沈積要求的一種經濟高效的方法。