二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9249285 待售
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已售出
ID: 9249285
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
HDP CVD System, 12"
(2) Load ports
FI Alignment: FI Alignment fixtures
Atmospheric robots: YASKAWA XU-RCM6841
Monitors: Chase type (Rack)
Slit valve:
(2) Parker AD276510A
(3) VAT A-728585
Transfer chamber robots: STD Reach dual blade robot (Clear Lid)
Chiller: SMC INC-498-011C
Chamber A:
TMP: SHIMADZU TMP-H3603LMC-A1
Gas ring: 36
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber B:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber D:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
Process Kit
RF Generator type:
(6) MKS Spectrum 11002
(3) MKS Spectrum 10513
Gas configurations:
Chamber A:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 Ar 1,000
Line 6 He 600
Line 7 H2 1,000
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 NF3 400
Line 11 NF3 5,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber B:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber D:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATerials Ultima X是一種反應堆，用於材料層沈積在晶圓和其他基板上。它被設計用於半導體工業，被認為是當今可用的最可靠、精確和生產性最強的反應堆之一。AMAT Ultima X反應堆是為廣泛的沈積過程而建造的，如化學氣相沈積（CVD）、物理氣相沈積（PVD）、原子層沈積（ALD）等等。它的設計包括一個加熱的隔熱室，該隔熱室有多層加熱，以便對材料進行精確沈積。它有兩到八個腔室，視工藝要求而定，每個腔室都配有調節溫度、壓力和氣體流量的輸送設備，以獲得最佳效果。應用材料Ultima X提供了高水平的性能和可靠性。其高溫梯度，加上低熱質量，使得沈積速率高，可將工藝時間減少多達40%。其先進的設計還可以實現低溫均勻性、低熱漂移和更高的使用壽命性能。Ultima X還提供可選的就地清潔（CIP）和快速解決方案傳輸（RST）功能,以確保快速高效的處理。AMAT/APPLIED MATERIALT Ultima X還提供了先進的控制系統，以最大限度地提高單位效率和可靠性。其集成控制機為高性能和靈活性而設計，允許用戶根據每個應用程序的具體需求定制工具的操作。它包括現場診斷和校準、高速同步、集成氣流和溫度控制等功能，等等。總體而言，AMAT Ultima X是一種先進、可靠、高性能的反應堆，專為半導體工業中的沈積過程而設計。它具有高沈積速率、低熱漂移和集成控制資產,能夠提供準確、精確和一致的結果,即使對於要求很高的過程也是如此。
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