二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9255628 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X
ID: 9255628
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
HDP CVD System, 12" 2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATerials Ultima X是一種用於復雜半導體器件制造的超高密度等離子體蝕刻技術。它是一個感應耦合等離子體(ICP)反應器,這意味著它利用電磁場來創建由能在薄膜蝕刻中使用的高能離子和自由基組成的等離子體。納米電子器件等薄膜層的蝕刻對於加快納米設備和其他半導體產品的制造過程至關重要。AMAT Ultima X用途廣泛,因為它適用於所有蝕刻化學和材料。反應堆獨特的結構由三個同心圓柱體組成,使反應性物種和化學前體快速移動,消除了熱能沈積的發生。這大大提高了整個基板上的蝕刻均勻性。APPLICED MATERIALTIES Ultima X也使用具有低壓操作的高密度光源,結合創造了非常高效的蝕刻工藝。這是通過利用負離子和電子同時有效電離等離子體種類的雙驅動電源來實現的。這種高密度的等離子體設備提供優於其他工藝的蝕刻各向異性,顯著減少蝕刻側壁損耗並實現更高分辨率的特征。Ultima X還采用了獲得專利的氣體輸送技術,該技術改進了蝕刻工藝,同時減輕了反應性物種的汙染。這項技術使用先進的計算機軟件算法來精確控制蝕刻前體和底物之間的壓力,確保等離子體物種以理想的數量和最小的散射到達底物。AMAT/APPLIED MATERIALT Ultima X還利用先進的光學基板檢驗(OSI)系統來確保最終產品的質量。該單元采用可見光和紅外光光譜檢測矽汙染物、柵極氧化物厚度、柵極氧化物損傷和柵極氧化物故障。此外,AMAT Ultima X OSI機能夠同時測量蝕刻圖樣的臨界尺寸,以保證高收益率。總體而言,APPLIED MATERIALTIES Ultima X是一種功能豐富的蝕刻反應堆,功能先進。其高密度等離子體源、低壓操作和動態氣體輸送與高效的最終產品檢測相結合,確保了最佳的蝕刻性能和精度。Ultima X被廣泛應用,例如開發精密的納米電子器件,是一種高度可靠的蝕刻工具。
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