二手 APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ #64984 待售
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ID: 64984
Darc Silane CVD System, 8"
208A, 3 Phase, 50/60Hz 87KVA, 10,000amps
Chamber A,B,C: DxZ Silane Chamber, E: Single Cool Down, F: Orienter
Process gas used: SiH4, H2, CF4, HE
Wide Body Loadlock, HP Robot
SNNF, HP Robot"
2000 vintage
See attached for more specifications.
APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ是為制造半導體器件而設計的半導體加工反應器。反應堆具有大面積晶圓傳遞室和帶有兩個小面積負載鎖的加工室。它為晶體管、二極管、晶體管等的生產提供高精度、高精度的工藝控制。Centura 5200 DXZ提供了具有高速線性磁控管的集成離子源,提供了高均勻度的離子源場、可調電流密度以及精確的目標到晶圓距離。反應堆擁有大面積真空設備和具有雙粗加工泵和多個進/出端口的整體熱壁疏散系統。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ反應堆單元包括三個可作為獨立工具或串聯使用的獨立腔室。轉運室提供高速處理和大面積基板裝卸能力。該工藝室包括一個高速旋轉磁控管源,用於提高均勻性和對基板的微粒控制。第三室是蝕刻室,利用大功率波導磁控管提供均勻、高速率的各向異性蝕刻。Centura 5200 DXZ反應堆機提供了幾個高級功能。它有一個自動的基板清洗和制備技術,允許提高產量和更快的循環時間。它還包括一個集成的原位診斷工具,實時監測和調整晶圓溫度和化學反應。反應堆提供細粒度調整多種參數,如輪廓、劑量、速度和溫度。應用材料Centura 5200 DXZ反應堆資產設計用於從光刻到多層沈積、蝕刻和沈積過程的廣泛過程。適用於復合半導體上,如砷化的,產率和循環時間增加。它還能夠處理高能植入,如光刻、計量和光刻剝離,而不會影響性能。Centura 5200 DXZ憑借其精確的控制、高密度、高精度的運行,是半導體行業的寶貴工具。
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