二手 APPLIED MATERIALS Centura 5200 #111644 待售

APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種多室水平半導體反應堆，設計用於大批量生產先進微電子器件。它能夠處理多達8英寸晶片的基材，具有各種先進的薄膜應用，包括淺溝隔離（STI）蝕刻、鈍化、柵極氧化物沈積和化學氣相沈積（CVD）。這是一個全自動設備，有一個大的加載端口，可以容納多個晶圓，能夠容納各種卡帶大小和可配置的處理模塊。Centura 5200的加工室是一個不銹鋼圓筒，允許系統在大氣和低壓操作中進行廣泛的沈積、蝕刻和清洗過程。APPLIED MATERIALS Centura 5200中的真空單元能夠達到高質量的真空，可以達到1E-8 torr的基本壓力。它由一個機械泵和一個帶有渦輪分子泵的可烘焙的後備擴散泵組成。這臺機器被設計為與各種腐蝕性和反應性氣體兼容。Centura 5200利用可編程邏輯控制器（PLC）來控制反應堆並為操作員提供接口。該工具具有計算機控制的監視和控制資產,可實現精確的實時過程控制。APPLIED MATERIALS Centura 5200還具有隔離的潔凈室環境,可最大程度地減少顆粒和汙染。這樣可以實現最高的制造公差和高級工藝控制,從而優化產量。Centura 5200配備了多個傳感器和閉環控制系統，可以調節晶圓溫度、工藝壓力和流速，輸出功率以確保最大晶圓質量。該模型除了監測和控制腔室周圍的紫外線和臭氧水平外，還包括一個冷卻設備，以確保室內的溫度得到適當維護。總之，APPLIED MATERIALS Centura 5200是一種通用、高性能的半導體反應器系統，具有先進的薄膜應用和高速、高產量的生產能力。它利用隔離的清潔室環境、多個傳感器和控制系統以及PLC控制單元來確保最大的晶圓質量。Centura 5200具有廣泛的功能和先進的工藝控制,是尋求可靠、高效和經濟高效的光刻解決方案的制造商的理想解決方案。