二手 APPLIED MATERIALS Centura 5200 #174265 待售

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圖為 已使用的 APPLIED MATERIALS Centura 5200 待售
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已售出
反應爐
製造商
APPLIED MATERIALS
模型
Centura 5200
ID: 174265
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
WxP system, 8" Includes: Centura Main Frame System Controller/AC Power Box Process: Etch Back (W.EB) System Power Rating: 208 VAC 3-Phase Loading Configuration: Wide Body Load Lock Chamber Robot Type: HP Robot wafer handling assembly CRT Monitor and Monitor Base with light Pen x2 RF Generator Rack x1 (ENI OEM-12B3-03) (4) Nabtesco Dry Pump (EV4002) (2) Toyota Dry Pump (EC100L) (2) Dikin Chiller (UBRP2AMPE ) SMC Chiller (INR-498-012D-X012) Showa Denko Scrubber Chamber Configuration: Load Lock Chamber A Load Lock Chamber B Transfer Chamber Chm Position A: Centura WxP Chamber Chm Position B: Centura WxP Chamber Chm Position C: Centura WxP Chamber Chm Position D: Centura WxP Chamber Chm Position E: Empty Chm Position F: Orienter Chamber De-installed and crated 1997 vintage.
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APPLIED MATERIALS Centura 5200是一款先進的晶體管級等離子體蝕刻設備,對用戶具有廣泛的優勢。這種裝置是制造、包裝和測試超現代半導體芯片和元件的專用工具。它是可靠、高效且經濟實惠的蝕刻解決方案。Centura 5200具有強大的單個晶片感應耦合等離子體源。該源能夠在高溫下產生極大體積的離子化水合氫離子，從而在低至5納秒的時間內實現高蝕刻速率。這個過程使用高頻功率和一種反應材料，通常是氣體，來氧化矽的表面，以產生微小的溝槽和隧道。APPLIED MATERIALS Centura 5200遵循業界標準的Multi-View Design （MVD）,為用戶提供無與倫比的精度和準確性。它還采用了提供更好的基板視圖的並行傳感器技術，允許用戶快速檢測任何可能限制工藝產量的弱點。Centura 5200是一種全自動蝕刻系統。該裝置的設計和建造是為了盡量減少產品汙染的風險而量身定制的。先進的矽膠網頁清潔機和自動化的終端效應器加載和卸載等功能確保用戶只需要最少的手動幹預即可確保產品質量高、無汙染。APPLIED MATERIALS Centura 5200的設計具有卓越的可靠性。其高精度PFI （Portable Milm Implant）工具確保了蒸發材料的均勻分布,有助於提高工藝控制和產量優化。此外,利用集成的離子門,用戶可以快速輕松地提高流程靈活性。Centura 5200是功能齊全的蝕刻資產,為用戶帶來無與倫比的好處。此設備可輕松集成到現有生產線中,並提供高效且經濟實惠的蝕刻解決方案。其可靠、準確的設計、先進的自動化和卓越的工藝控制使其成為當今市場上最好的蝕刻解決方案之一。
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