二手 APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD #100063 待售

應用材料Centura HDP CVD是一種先進的化學氣相沈積（CVD）設備，設計用於先進的微電子和納米技術加工應用。與舊的CVD系統相比,該系統的設計旨在提供更好的性能、更大的靈活性和更好的一致性。該機組配有石英管和兩個加熱的磁化器，下部和上部，以及氣體輸送機。石英管是一個單端壓力室，包括石英管、其頂部和底部法蘭和密封件、流明進給通路和水平調節器。紅外燈加熱感光器，使要沈積的基板快速加熱和冷卻；它還會在基板表面產生均勻的熱場。Centura HDP CVD上的氣體輸送工具由氣體流量計、序列閥、毯式氣體供應和旁通閥組成。氣體流量計能夠精確測量來自各個氣瓶的氣體供應流量。順序閥有助於控制氣體從氣源流向資產的流量。毯式氣體供應允許在基板上輸送累積惰性氣體毯子。旁通閥用於在發生故障時排空模型的腔室。該設備還配備了真空泵和安全閥、壓力表和熱電偶傳感器，分別監測和測量室內的真空和溫度水平。APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD系統還有一個強大的控制器軟件，允許用戶對各種工藝參數進行編程，以產生不同的膜質量和均勻性水平。該軟件還可用於存儲、分析和重新創建流程配方和設置。該裝置具有快速沈積速率和均勻性的高通量，同時控制沈積膜的質量。可用於沈積金屬和其他金屬基膜如鋁、銅和鈦，以及多種介電膜和氧化物。該機器還能夠處理各種過程，如ALD（原子層沈積）和保形沈積。Centura HDP CVD工具提供了可靠和優化的CVD體驗,可供制造行業使用。它能夠產生具有改進的均勻性和純度的高質量沈積，這對於最新半導體和納米技術產品的成功至關重要。