二手 APPLIED MATERIALS Centura MxP #130910 待售

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ID: 130910
PECVD SiO2 / SiON / SiO2 system 3 chambers: (2) Poly, (1) Oxide Power: 208VAC, 3ø, 50/60Hz ENI-OEM-12BX3 Eabara A30W X2 Ebara AA70W Ebara A70W X2 Gases : Ch A-He, N2,SiH4, CF4, N2O Ch B-He, N2,SiH4, CF4, NF3, NH3, N2O Ch C-He, N2,SiH4, CF4, N2O Process Kits Clamp chucks EPD Turbos Dry pumps (Edwards IL/IH600) (Qty 3) RF Gen ENI OEM-12B HE Neslab chiller Rear monitor All cables Software: English De-installed Q1 2010 2000 vintage.
APPLIED MATERIALS Centura MxP反應堆是一種高性能、大型的設備,旨在使大眾市場產品和晶圓結構的生產具有成本效益。該系統配備了多種技術,以確保與最苛刻的制造工藝的最大效率和兼容性。反應堆集成了多種元素,包括一個大面積腔室、一個熱均勻沈積單元和一個自動等離子體源,用於敏感基板的精確和高效處理。機器提供了高度的工藝靈活性,使用戶能夠同時處理正負極性裝置以及大小基板。反應堆還提供對溫度和壓力的高精度控制,允許一次操作就能精確沈積多層。該工具針對先進的高功率器件生產和晶圓級封裝的加工進行了優化。該資產也適用於一般熱蒸發和光阻塗層工藝。配備優化腔室設計的Centura MxP反應堆,通量率高,工藝控制和均勻性提高,熱反應性最小化,提高器件產量。集成等離子體源被設計為允許多層沈積在同一基質上。該模型還具有大面積腔室,為高效加工提供了卓越的熱均勻性和均勻性。APPLIED MATERIALS Centura MxP反應堆提供高效可靠的過程控制,具有多室控制和監控技術等一系列先進功能,包括氣體感測和大氣控制。內置以太網/IP協議可確保傳輸數據的能力以及提高處理速度。該設備還具有先進的安全功能,以保護工人免受危險過程的傷害。總體而言,Centura MxP反應堆是一種先進的高性能系統,旨在高效、經濟高效地制造大眾市場產品和晶圓結構。集成的技術和先進的設計確保了最大的效率和質量,使其成為大規模生產半導體器件的理想選擇。
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