二手 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #180431 待售
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已售出
ID: 180431
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
PVD system, 8"
Specifications:
Main frame: through the wall configuration
Wafer handing: SNNF
Front panel type: Painted
Software version: 8.91
Single board computer in controller: Yes
Ion gauges: 451 nude
Robots:
Buffer robot: HP+
Blade material: Original metal
Load lock: No wide body
Index handler type: Enhanced tilt out
Loadlock vents: Variable soft vent + fast vent
Transfer robot: VHP
Blade material: CVD compatible
Narrow body: Yes (Tilt-out)
Chamber specifications:
Chamber 2:
Metal / Applic.: IMP Tin
Body Style: Vectra Imp
Source type: Vectra Imp
Power Supply: 12kW
Power Supply: 12kW
Heater: B101
Basic chamber setup:
A. Pass through
B. Cool down
C. PC 2
D. PC 2
E. Orientor with Std Degas
F. Orientor with Std Degas
Gasline fittings: AMAT specifications
For preclean / CVD:
Chamber C:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
Chamber D:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
MFC type:
Process MCF-1:
2: AR (size 100)
3: Hecar; BTpur;EDpur ;Phat (size 500;2000;3000;1)
4: AR (size 100)
C: AR (size 20)
D: AR (size 20)
Process MFC-2:
2: N2 (size 100)
3. 500;2000;3000;1 (size 1000;1000;1000)
C. AR (size 300)
D. AR (size 300)
Paste chamber: Yes (chamber 5)
System roughing pump type: Ebara
Chamber cryo pump type: OB8F
Umbilicals:
- mainframe to controller: Yes
- mainframe to generator racks: Yes
- mainframe to cryo compressor: Yes
- main AC to system controller/sys. AC: Yes
- syst cont/sys AC to primary Gen rack: Yes
- main AC to primary generator rack: Yes
- main AC to pump frame: Yes
- main AC to Neslab heat exchanger: Yes
- monitor cable: Yes
- monitor2 cable: Yes
- monitor3 cable: Yes
CE Mark: Yes
EMO Option: Yes
EMO button guard rings: Yes
Water leak detector: Yes
Buffer and transfer lid hoist: NO
Support Equipment:
Heat exchangers:
Number: 1
Type: AMAT
Cryo compressors: Yes
Number: 2
Type: 9600
Cryo He lines Yes
Neslab present: Yes
Resistivity meter: NO
Manuals not included
Installed
1999 vintage.
APPLIED MATERIALS Endura 5500是一種高端、多室反應器，致力於提高矽基器件的性能和可靠性。Endura 5500的設計目的是以盡可能最低的成本提供高產量,同時保持最高的質量和精度。APPLIED MATERIALS Endura 5500的先進設計允許在單個工具中進行各種基於矽的工藝，如沈積、蝕刻、退火、沈積、蝕刻和檢查。Endura 5500因此能夠提供業界產量最高的最高吞吐量。APPLIED MATERIALS Endura 5500采用了創新的雙泵設備，允許在生產的各個階段靈活、快速地調整工藝參數。該系統采用高效的泵速，以減少汙染，同時也提供必要的動力來完成許多不同的過程。此外，該裝置還利用晶片上的紅外加熱，使用戶能夠完全控制工藝溫度。Endura 5500是一種可靠而堅固的反應堆，非常適合使用最先進的半導體工藝制造半導體晶片。機器配備了高度自動化，可以在沒有人工幹預的情況下實現復雜的程序。此外,APPLIED MATERIALS Endura 5500的設計與現代控制系統兼容,允許將不同的軟件平臺集成到工具中。Endura 5500能夠進行各種各樣的工藝，包括化學氣相沈積（CVD），以便在受控環境中沈積材料，加工溫度可達1100 °C，壓力範圍可達10 Torr。這允許單面和雙面過程，如金屬化和光刻，以快速和高度的控制完成。APPLICED MATERIALS Endura 5500配備獨特的晶體種植器模塊（CGM），能夠晶體生長和摻雜服務，這兩者都是制造某些類型半導體器件所必需的。CGM提供對溫度和壓力的精確控制，允許得到受控和精確摻雜的材料。Endura 5500反應堆被設計為一種自動化、經濟高效和技術先進的資產。它具有全面的特性,是制造要求最高精度和質量的半導體器件的理想選擇。這個反應堆是一個可靠和值得信賴的工具，適用於許多不同的過程，並將在未來多年提供可靠的性能。
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