二手 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #182849 待售

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ID: 182849
晶圓大小: 8"
優質的: 1994
System, 6" Umbilicals 25' Chamber 1: Ti 11.3 source STD Body MDX L6 Chamber 2: Tin 11.3 source Wide Body MDX L12 Chamber 3: AL 11.3 source STD Body MDX-L12 Chamber 4: Tin 11.3 source WB Body MDX L12 Chamber A Pass: PC I (Missing) Chamber F Orient: standard MFC/Baratron: STEC 4400 Loadlock / Cassette: Narrow body Locdlock Buffer/Transfer Robot HP Robot Blade x2 Compressor 8510 x 2 Cryo Pump 1 phase Heat Exchanger Neslab Stored in a clean room 1994 vintage.
APPLIED MATERIALS Endura 5500是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,用於將薄膜沈積到半導體晶圓表面。Endura 5500反應堆是一種工藝設備,設計用於在精確、高效和可重復的沈積過程中提供優質薄膜。它利用了幾種方法來優化沈積過程,包括改變一系列不同的等離子體相關參數。應用材料Endura 5500反應堆使用先進技術產生均勻的等離子體放電,有助於制造可重復和可靠的薄膜。它采用了金屬對金屬真空密封,不需要O形圈和其他金屬密封,允許非常精確和可重復的壓力控制。此外,該反應堆還具有導熱冷卻氣體分配系統,具有低色散壓力,確保向晶片均勻輸送氣體。Endura 5500反應堆可以配置為容納多種不同的過程,包括磁控管濺射和反應性濺射,以及其他等離子體增強化學氣相沈積、PECVD和蝕刻過程。反應堆還配備了一個高性能的過程計算機系統,使過程的精度。反應堆可以進行遠程監測,並提供實時監測和對過程結果的反饋。APPLIED MATERIALS Endura 5500反應堆還具有先進的硬件和軟件進步,大大提高了工藝吞吐量和產量。它能夠提供高達60納米/秒的薄膜沈積速率,並具有若幹特點,旨在提高工藝的可重復性和可重復性,包括恒定氣體分配系統、局部和全局射頻匹配、雙腔同步操作、動態射頻和獨立偏置控制。最後,Endura 5500反應堆被證明成功地在晶片表面生產出高質量、超光滑的薄膜。這可以提供多種好處,包括提高對眼淚和劃痕的抵抗力,改善介電性能,增加對化學物質和磨損的抵抗力。此外,APPLICED MATERIALS Endura 5500反應堆可用於方便地將薄膜沈積到各種電子設備,包括太陽能電池和存儲設備的大型晶片上。
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