二手 APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 待售
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ID: 163402
晶圓大小: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
APPLIED MATERIALS P 5000是一種專門的化學氣相沈積（CVD）反應器，用於商業生產電子和半導體材料。具體來說，APPLIED MATERIALS P5000用於制造多晶矽、多晶矽TFT（薄膜晶體管）、多晶矽柵極和poly-SiON（多晶矽氧化氮）材料。這種多用途系統的工作原理是在真空室中分解化學前體，在基板上形成薄膜或材料層。這種沈積過程被稱為化學氣相沈積，需要高溫和精確的壓力控制。P-5000反應堆提供了可靠和高效生產所必需的高水平控制和精確度。其先進的設計包括一個單獨的配電室，在其中裝載前體原料、反應物和惰性氣體，以及發生沈積的反應室。P 5000反應堆還具有溫度、壓力、氧氣流率等廣泛的工藝參數，都可以調節，以保證膜沈積的一致性和均勻性。在應用材料P-5000反應堆的核心是它的高功率加熱系統，它允許在400°C和960°C的過程溫度範圍內。這有助於降低沈積過程的復雜性，並在基板上保持一層一致的薄膜。P5000反應器還具有超精密晶片反應室和可選的風扇輔助冷卻，以進一步提高沈積工藝的效率和產品質量。APPLIED MATERIALS P 5000反應堆系統通常配備先進的自動化和控制系統，具有保護人員和設備的安全功能，並配有離線監控系統以確保符合產品規格。此外，反應堆還具有防腐蝕部件和用於降低維護要求的防護塗層。總體而言，APPLIED MATERIALS P5000反應堆為用於制造電子和半導體材料的CVD工藝提供了可靠、高效和經濟高效的解決方案。它具有先進的設計、精確的性能和智能控制系統,是商業化生產的絕佳選擇。
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