二手 APPLIED MATERIALS P 5000 #163405 待售
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已售出
ID: 163405
晶圓大小: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
應用材料P 5000反應器是一種先進的半導體制造設備，用於在晶圓上蝕刻和形成圖樣。這臺機器擁有卓越的光刻能力，使蝕刻過程非常精確和細致。應用材料P5000反應堆具有高達16英寸的場大小，允許更大規模的過程。用於創建圖樣的噴嘴很小，可以很容易地更改，從而能夠應用廣泛的蝕刻圖樣。P-5000反應堆采用優化的蝕刻工藝，化學用量最少，可提高效率和節約成本。該系統利用其內置監控和計算機系統，實現盡可能高的蝕刻速率。APPLICED MATERIALS P-5000反應器還具有獲得專利的G-Laser,這是一種燒蝕激光器,能夠在傳統蝕刻系統的一小部分時間內完成蝕刻過程。這種激光器還可以提供比其他系統更多的細節和精度。除了其優越的蝕刻能力外，P5000反應堆還包括一個高精度的檢驗單元。這臺機器包括一臺高分辨率顯微鏡，以及在整個蝕刻過程中測量晶片化學成分的傳感器。這樣可以確保所有晶片在從工具中釋放之前都符合所需的標準。P 5000反應堆設計用於在非常清潔的環境中運行，其密封室防止任何國際塵埃顆粒。這個腔室充滿了超純氮，有助於減少晶片的氧化。該資產還具有高級過濾模型，用於返回蝕刻過程中產生的任何微粒。應用材料P 5000是任何半導體生產線的理想選擇.其先進的蝕刻和檢驗能力，加上潔凈室環境和能效，使這種設備成為生產質量最高的晶片的絕佳選擇。
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