二手 APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 #293647151 待售
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ID: 293647151
優質的: 2014
Molecular Vapor Deposition (MVD) system
Vacuum:
Pumping speed: ≥100 m³/h
Base pressure: ≤10 mTorr
Storage:
Humidity: 25 to 85% (Non - condensing)
Temperature: 5 to 70°C (41 to 158°F)
Exhust flow:
System exhaust: 200 CFM
Gas panel louvers: 200 CFM
Power supply:
Voltage: 208 VAC, ±10%, 3Φ, 5 Wire-Y (Ground + netural)
Current: 60 Amps
Full load:
58 Amps (Maximum)
46 Amps (Nominal)
CB1 Interrupter current: 10 K at 240 V
K1 Impuls withstand voltage: 8 kV
2014 vintage.
應用顯微結構MVD 100是一種緊湊的超高真空(UHV)微波等離子體薄膜反應器,旨在支持多種工業薄膜制造工藝。其任務是為各種成分和厚度的薄膜沈積提供一個成本效益高、可靠的平臺。該反應堆裝有在2.45或5.8 GHz頻段運行的雙頻設備,使操作員能夠根據所需的薄膜材料在沈積之間切換。它的不銹鋼結構加上堅固的鋁制腔室,使它成為一個堅固的系統,能夠承受長期的生產級維護周期。MVD 100利用創新的高能幹式真空裝置捕獲極小的殘留顆粒,並在沈積開始前確保無膜真空環境。本機采用直驅渦輪泵、化學泵、無油壓縮空氣泵的組合,達到10-8 Torr的底壓,可選擇達到6 x 10-9 Torr。應用微結構MVD 100采用的創新等離子體輸送工具旨在確保最大等離子體均勻性和對基材的最小汙染。它能夠創造一個具有一系列密度和等離子體種類的等離子體環境。資產可以根據反應式或非反應式流程的特定要求進行調整。MVD 100的設計進一步確保了預防性維護的經濟高效解決方案。它的模塊化設計允許快速、方便地訪問其所有組件,包括電源、等離子體控制、封裝和運輸以及其他外部連接。此外,它內置的安全特性包括一個安全互鎖模型,當檢測到意外壓力波動時,該模型會立即關閉等離子體。應用顯微結構MVD 100是制造薄膜的必要工具,例如用於微電子、光學塗層和平板顯示技術的薄膜。它的性能和成本效益使其成為許多工業薄膜制造工藝的可行候選者。
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