二手 ASM Epitaxy #166041 待售

ASM外延反應器提供高效、安全和精確的半導體材料外延沈積。外延沈積（Epitaxial deposition）是將半導體材料的紫外線層沈積到基板上，以擴大和提升半導體器件性能的過程。外延反應堆是一種使用物理氣相沈積技術的高效反應堆系統，通過蒸發、濺射、和或離子轟擊將源材料傳遞到基板進行沈積。反應堆由幾個組分組成，包括一個原料室、一個真空室和一個基板級。原料室由一個真空室組成，其中原料被加熱和蒸發。基板階段通常被冷卻以促進基板的均勻和快速生長。基板表面再暴露於汽化的源材料，材料在基板材料表面聚結形成外延層。該反應器的厚度、覆蓋面和外延層質量均勻，為外延沈積提供了一種有效的方法。在基板上得到的層通常具有均勻的厚度，以及橫跨基板的均勻覆蓋。此外，由於生長溫度較低，晶體完美和/或結構完美的蒸發材料得以維持。ASM Epitaxy還提供了生長速率和沈積速率的均勻性，有助於保持蒸發材料的晶體完美，以及層的均勻覆蓋和厚度。均勻的覆蓋範圍和層厚可實現有效的產率,因為存在缺陷的可能性較小。反應堆由於易於使用，效率很高。源材料可以很容易地變出，用戶可以根據需要控制沈積速率。此外，反應堆還具有易於理解的用戶界面，使新用戶能夠簡單地了解沈積過程的操作參數。總之，外延為外延沈積提供了一種安全、精確的方法。它簡化了沈積過程，同時為用戶提供了蒸發材料的均勻覆蓋、層厚、晶體完美。因此，反應堆的效率對半導體器件設計者和制造商是有利的，因為它的可靠和一致的結果。