二手 CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #293651884 待售
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ID: 293651884
優質的: 2010
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Substrate, 8"
ADIXEN ATH-400M Pump
Aluminum oxide
Manual load lock
Chamber
(6) Heater precursor lines
Gases: N2, Ar, O2, H2, NH3
Plasma enhanced ALD
Thermal ALD with temperature: Up to 300°C
No heater jacket
No APC
Optimize:
ALD Reactor
Heater
Trap geometry
2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH斐濟F200是一個強大的，數字化的，工業級的大氣壓等離子反應堆。是精密薄膜沈積、表面活化、表面處理、沈積後處理的理想選擇。由於它有能力用各種表面化學和結構對任何基板的表面----金屬、半導體、納米顆粒和介電----進行化學修飾，它使得能夠生產功能（混合）結構和材料，並具有適合具體應用的特性。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200基於熱陰極、直接諧振電感等離子體源原理，利用介電屏障放電。它由一個多區腔室組成，該腔室具有精確設計的溫度控制電阻加熱元件，以便在任何類型的基板上控制各種薄膜的沈積。該室設有一個開口，以容納樣品的裝卸。斐濟F200配備了直觀和用戶友好的多模式控制軟件，可實現遠程操作和參數選擇以及為特定應用程序創建自定義控制配置文件。它與多種工藝氣體相容，可與氙氣、氮氣、氧氣、二氧化碳、氫氣、霓虹燈或氨一起操作。等離子體的來源是高度穩定的，可以調整為氣體流速的復雜組合。FIJI F 200專為高產量網絡處理和微型和納米加工工業的廣泛應用而設計。它具有較高的吞吐量和快速的過程啟動/停止功能,能夠持續生產和有效的成本控制。高效，能耗低，工藝重復性強，等離子體控制精度高。總之，CAMBRIDGE NANOTECH斐濟F200是一個創新的、功能強大的等離子體反應堆，它結合了最先進的數字控制和精確的等離子體工程，提供了無與倫比的表面處理解決方案。它能夠在任何類型的基材上精確沈積薄膜，可用於導電薄膜或電介質、表面活化處理、沈積後處理等多種應用。
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