二手 CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #9179531 待售

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ID: 9179531
優質的: 2010
Atomic layer deposition system Substrate, 8" Aluminum oxide Manual load lock Dual chamber (6) Heater precursor lines (5) Plasma gas lines Plasma enhanced ALD With (3) gases: O2, Ar, N2 Thermal ALD with temperature: Up to 300°C Turbo pump with APC Chemicals: TMA, Zr, Ti Optimize: ALD Reactor Heater Trap geometry 2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH斐濟F200是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,用於研究和工業規模生產薄膜。它設計用於各種應用,包括:太陽能電池生產、光電、半導體、MEMS/NEMS和顯示器。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200是一款下一代、高精度的CVD設備,可以將周期性薄膜沈積至0.5µm厚。它是為金屬、半金屬和金屬氧化物的實驗沈積而設計的。該系統有兩個集成的過程模塊:沈積和移動性。斐濟F200設計可靠、人性化,顆粒生成率低,背壓操作低,薄膜應力低,背面冷卻均勻,提高了批模均勻性。FIJI F 200是單晶圓反應堆,有CL-V和PD-V兩種型號配置。這兩種型號都帶有直觀的圖形用戶界面和集成的視頻顯微鏡。CL-V配置包括一個集成的起重臂,可方便地裝卸樣品/基板而不受汙染。PD-V版本有一個內置的「自舞臺」,帶有一個獨立的基板支架,允許打開設備進行手動裝卸。CAMBRIDGE NANOTECH斐濟F200提供多種選項,包括自動化、OneView氣體監測機、用於更大均勻性控制的環形熱板以及背面冷卻模塊。為了滿足各種工藝的需要,這座反應堆配備了各種各樣的工藝源和載體氣體。為了進行更精確的沈積控制,該工具包括一個充滿活力的石英選擇室,該室有助於將樣品從反應堆廢氣中分離出來,提供一個清潔、反應友好的環境。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200是一種可靠、用戶友好的CVD反應器,可用於各種具有精確沈積控制的薄膜應用。該反應器是薄膜產品研究和工業規模生產的一種經濟高效的解決方案。
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