二手 CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 #9365906 待售

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ID: 9365906
Atomic Layer Deposition (ALD) System Pneumatic pulse valves Ozone generator Vacuum pump Aspect ratio: > 2000 Substrates size: Up to 8" (6) Precursor lines Gases: Ozone, Trimethylaluminum, Diethylzinc, Ammonia and Anhydrous Power supply: 115 V, 50/60 Hz, 20 A CE Marked.
CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 Reactor是一種等離子增強化學氣相沈積(PECVD)設備,設計用於先進的微器件制造。此工具能夠以極低的占地面積沈積薄膜生長技術。S-200適用於各種先進的介電和金屬膜以及創新的材料研究應用。S-200的電源是一臺射頻發電機,頻率範圍從13.56 MHz到40 MHz。可調功率範圍為200 W至3,000 W,精度水平為+0.01毫秒,S-200的基材尺寸限制為4英寸(10厘米)晶圓,最高溫度範圍為450 °C。可調壓力範圍為0.6 Torr至10 Torr。為了滿足高質量的化學氣相沈積結果,S-200只需要5000 sccm的流量。S-200的沈積真空室有氣體進氣管,以產生均勻的氣體流動進行沈積。電極用於產生等離子體。一種不可蒸發吸塵器(NEG)泵用一系列鈦基吸塵器材料捕獲雜質。渦輪分子泵送基團用於維持腔室壓力。S-200具有先進的安全特性。過溫限位控制電路可防止任何異常氣體流動或腔室的其他故障。隔離的高壓電纜可隔離系統的高電源。S-200的入口歧管限制了氣體的流動,以確保腔室內更高的純度。S-200還具有一個配方存儲單元,最多可存儲五種配方。包括一個電動機陣列,使不同的運動階段由不同的操縱桿根據用戶的喜好進行控制。彩色LCD觸摸屏,具有用戶友好、直觀的設計,允許用戶對機器進行精確編程。CAMBRIDGE NANOTECH SAVANNAH S200 Reactor是一種高科技沈積工具,為先進的介電和金屬膜應用提供安全可靠的PECVD解決方案。高效的氣體混合、真空控制和精確的電機控制使得這種反應堆成為實驗室和生產環境的理想選擇。
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