二手 CANON / ANELVA COSMOS I-1201 #293597728 待售
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單擊可縮放
ID: 293597728
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
PVD System, 12"
For solder bump
CANON ANELVA Cosmos 300 PVD System
(2) CANON ANELVA Unit-875CA Cryopump compressors
System rack
LCD Monitor rack
Controller rack
AC Power rack
Chiller
DC Rack
RF Rack
Cryo He hose
Process chambers:
Chamber-A (SLA-ICP)
Chamber-B, (3) Cooling and gate bulbs
Chamber-C
Chamber-D (Process: Cu)
Chamber-E (Process: Ti)
Chamber-F (Heat)
Dry pump racks:
EBARA AA10N Dry pump (upper stage)
EBARA AA10N Dry pump (lower stage)
Chambers:
Degas
SLA-ICP
Collimated CO
(2) STD-PVD
1022-41205C Channel relay box
1022-33862C Channel relay box
1022-39070C Channel relay box
(19) OMRON EE-SPX613 Liquid level sensors
ULVAC Qulee CGM-052 Gas analyzer
DENKI KOGYO STC-1S Matching control unit
DENKI KOGYO ST-1S Matching network
SMT1000J APC Smart-UPS 1000 LCD, 100 V
SUA1000J APC Smart-UPS 1000 VA USB, 100 V
ULVAC WPB-10-034 Pirani vacuum gauge
OMRON EE-SX674 Photo micro sensor
COPAL ELECTRONICS PG-35-102R-NVC Pressure gauge
Main breaker: 175/225 A
Interrupt current:10 A
Main UPS power supply
Power supply: 200 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 3-wire (Ground)
2002 vintage.
CANON/ANELVA COSMOS I-1201是一種緊湊、高性能的濺射反應器，用於薄膜的沈積。它是一種直流磁控管式反應器，能夠以高達0.2 nm/s的沈積速率生產薄膜，並且幾乎能夠濺射任何材料。反應堆配有用於固定底物的安裝結構、用於排空腔室的排氣系統、用於控制過程的射頻發生器以及用於操縱離子電荷的離子源。反應堆還設有用於離子源的磁控管式加熱燈絲、離子束加速管、電子槍和多級電子缸磁體。CANON COSMOS I-1201能夠生產高質量、均勻的薄膜，幾乎可以濺射任何材料。它利用高頻交流電源在腔室中創造低壓環境，使得金屬和金屬氧化膜能夠濺射。適用於生產銅、鋁、鈦、鋅等金屬以及種類繁多的金屬氧化膜。反應堆具有高達1000 W的可調功率水平，具有根據目標材料厚度調整沈積速率的能力。ANELVA COSMOS I-1201的整體結構是為最低維護和低運行成本而設計的。它采用模塊化設計,便於拆卸和重新組裝以進行維護。該室采用海面頂蓋，便於清洗，基板可旋轉調節，獲得所需的沈積角度和面積。該機還配備了燃氣和電氣安全關閉開關以及各種工藝監控傳感器，可用於保持最佳性能。COSMOS I-1201是一種強大的濺射反應器，可用於以合理的成本沈積質量優越的薄膜。它提供對工藝的高精度控制，能夠生產厚度均勻、復制性優良的薄膜。CANON/ANELVA COSMOS I-1201以其方便的維護結構、可調節的功率水平和經驗證的耐用性,是薄膜元件生產中的理想選擇。
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