二手 CANON / ANELVA FC 7100 #9293805 待售

CANON/ANELVA FC 7100是一種高質量的反應性離子蝕刻器（RIE），通常用於物理氣相沈積（PVD）和化學氣相沈積（CVD）工藝。該反應器設計用於對蝕刻過程進行高度精確的控制，從而實現表面質量的最佳控制和均勻性。它由一個管狀腔室組成，該腔室連接到一個旋轉脈沖閥，使氣體混合物能夠很好地轉動，以便精確地應用蝕刻劑。腔室用氮氣加壓，可以加強對內部環境和條件的控制。真空壓力由一個健壯的渦輪分子泵保持，這也提供了帶電粒子的強烈加速度，提升了蝕刻速度並提供了平滑的蝕刻過程。此外，一個自產的低壓化學蒸氣組合器被整合到腔室中，在整個蝕刻過程中提供連續的反應性物質供應，從而能夠精確和準確地控制蝕刻速率。蝕刻等離子體是由一臺高密度的13.56 MHz射頻發生器產生的，該發生器提供0.2至2 Torr之間的穩定等離子體，這取決於所使用的氣體混合物。射頻發電機由大功率固態電源供電,可調節輸出電平在0到1000 W之間。足夠的功率輸入可確保均勻蝕刻,從而提供均勻的蝕刻表面質量。現代微處理器控制的調壓調頻系統保證了光滑的蝕刻過程。先進的反應室設計允許各種蝕刻參數和氣體混合物，如O2、 、 、 、 、Ar。為了在整個樣品上固定均勻蝕刻，腔室配有低壓裝置，無論樣品表面積如何，都能確保相同的蝕刻速率。CANON FC 7100適用於多種材料，包括但不限於矽、金屬、氮化物、氧化物、光致抗蝕劑和類似金剛石的碳。ANELVA FC7100是一種強大可靠的反應堆，具有可靠的性能，可以根據各種蝕刻要求量身定制，提供高質量的表面質量。憑借先進的射頻發電技術、大功率固態電源等多種特點，ANELVA FC 7100確保了對蝕刻工藝的高效蝕刻和精確控制。它是一種經濟高效的解決方案,可滿足需要一致和高質量結果的日常蝕刻需求。