二手 CSD EPITAXY EpiPro 5000 #9068399 待售

CSD EPITAXY EpiPro 5000是一種外延沈積設備，設計用於生產光電、先進材料和高性能集成電路的半導體結構。該系統是一個單室離散外延沈積反應器，旨在對所有與外延生長有關的參數提供高精度控制。利用電子束輔助生長技術，結合熱和等離子體增強型化學氣相沈積（EBE-CEV），達到優異的均勻性和質量。該裝置能夠將材料沈積在直徑不超過200毫米、厚度不超過250毫米的基板上。EpiPro 5000采用的EBE-CEV技術旨在生產高純度的外延層,並能很好地控制層厚和摻雜濃度。機器中使用的電子束是超剛性的，允許對層厚度和摻雜濃度進行非常精確的控制，而高階光譜化學分析則允許對雜質檢測進行近飽和水平的控制。此外，光束的任意掃描模式確保了最大基板尺寸的均勻沈積，從而改進了制造工藝的縮放。CSD EPITAXY EpiPro 5000還提供了幾個額外的復雜過程控制層,以確保最高程度的一致性和質量。這包括通過現場光譜儀進行先進的沈積室監測，以檢測沈積室內的氣體，以及一個照相機組件，以實時監測生長情況，並檢查缺陷和汙染物。該工具還包括若幹通風控制系統，以確保沈積室保持在最佳溫度和壓力。當涉及到外延沈積時,熱量是另一個重要因素,EpiPro 5000的設計旨在解決這一問題,它采用了高性能的熱力計和水冷卻系統,旨在使基板和沈積室保持可接受的工作溫度。此外，該資產還配備了惰性氣流模型，以確保整個沈積室的均勻性，並最大限度地減少氣流湍流。CSD EPITAXY EpiPro 5000還提供自動監控和參數控制,使科學家能夠以較高的速度對困難過程進行試驗。設備也極為可靠，使用得當，壽命長。總之,EpiPro 5000是一個高度先進和可靠的沈積系統,旨在產生高質量和均勻的外延層,並具有出色的控制和精度。