二手 GRAPHENE SQUARE TCVD-100A #293805641 待售

ID: 293805641
Thermal CVD System Safety cabinet Temperature: ~1100°C Testing uniformity: ≤±3% (3) Heating zones Chamber size, 4" Pumping unit: Rotary pump: Oil type Dry scroll pump Additional mechanical turbo pump Gas control unit: (4) Mass Flow Controllers (MFC).
GRAPHENE SQUARE TCVD-100A是一種尖端的化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於合成具有精確控制和異常均勻性的優質石墨烯薄膜。這個先進的反應堆配備了最先進的特性,使研究人員和行業能夠生產出大面積的石墨烯薄膜,用於廣泛的應用,包括電子、儲能、傳感器等等。TCVD-100A反應器基於熱CVD原理運行,這是一種在各種基材上合成石墨烯薄膜的成熟方法。該過程涉及在高溫下分解含碳前體氣體,如甲烷或乙烯,在底物表面上形成石墨烯層。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反應器旨在為優質石墨烯薄膜的生長提供一個穩定和受控的環境,具有非凡的性能。TCVD-100A反應堆的關鍵亮點之一是其高溫運行能力,允許石墨烯薄膜在高達1000攝氏度的溫度下生長。這種升高的溫度範圍對於促進前體氣體分子的快速分解和在底物表面形成高質量的石墨烯層至關重要。此外,反應堆還配備了精確的溫度控制系統,可確保整個基板均勻加熱,從而實現一致的石墨烯膜厚度和質量。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反應堆具有垂直室設計,便於前體氣體和熱量在整個反應堆體積中的均勻分布。這種設計確保了高效的氣流動力學,並最大限度地減少了能導致石墨烯膜中形成雜質的氣相反應。垂直腔室配置還提供了方便地進入基板支架進行裝卸樣品,以及方便的維護和清洗反應堆部件。此外,TCVD-100A反應堆配備了先進的氣體輸送系統,能夠精確控制前體氣體的流量和成分。這種精確的控制對於優化石墨烯生長過程和實現所需的膜性能,如厚度、結晶度和電導率是必不可少的。反應堆允許使用各種前體氣體和氣體混合物,使研究人員能夠靈活探索不同的生長條件,並為特定應用量身定制石墨烯薄膜。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反應堆除了具有先進的熱和氣體處理特性外,還設計了易於操作和維護。反應堆控制系統人性化、直觀,讓研究人員設置生長參數,實時監控過程。反應堆腔室由高品質材料制成,能承受高溫和腐蝕性氣體,確保長期耐久性和可靠性。總體而言,TCVD-100A反應堆是研究人員和尋求生產具有特殊性能的高質量石墨烯薄膜的行業的有力工具。其先進的設計、高溫操作能力、精確的氣體控制和易用性使其成為石墨烯合成應用在廣泛領域的理想選擇。
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