二手 LAM RESEARCH Altus #9163188 待售

LAM RESEARCH Altus是為各種現代半導體加工需求而設計的先進、緊湊的反應堆設備。特別是，Altus非常適合大體積、外延和低壓化學氣相沈積（CVD）的應用。LAM RESEARCH Altus反應堆是為處理大量吞吐量而建造的，具有廣泛的精確溫度控制和精確的反應時間能力。其設計基於封閉式高純度石英管，帶集總電阻加熱元件，完全可編程、可配置的粉末進料器，通過集成質量流量控制器和閥門進行精確反應物控制。具有精確的溫度控制、高純度真空和精確的反應物控制，Altus反應堆系統能夠提供高精度和可重復的結果。LAM RESEARCH Altus反應堆機組由於具有端到端可變加熱卡巴比石、多個高純度純度石英制冷點和多個保護性金屬層的先進熱設計，在廣泛的工藝條件下實現了高精度。先進的溫度控制允許不同配方和工藝要求之間的快速轉換時間，同時在整個機器中提供出色的溫度均勻性。該工具還配備了自動壓力控制,以確保資產的準確響應。這與完全可編程的反應物控制相結合，允許以最小的變化可重復的結果。Altus反應堆模型用途極為廣泛，可與多種其他元件集成，用於綜合CVD設備。該系統與多種氣體、化學品和材料兼容，可配置用於處理垂直或平行過程運行。該反應堆還提供綜合計量工具，用於過程監測、粒徑確定和表面表征，以及用於自動化和優化加工作業的可自定義控制。為確保安全可靠運行，LAM RESEARCH Altus反應堆機組采用高檔不銹鋼和奇特金屬建造，確保最大限度的結構完整性。機器還有一系列安全功能作為後盾，如惰性氣體填充和清洗、過溫保護和高壓保護。該工具還得到ATEX的批準，並符合IEC6116和其他國際準則規定的條例。總體而言，Altus反應堆資產是一個先進的高性能CVD和外延沈積平臺，在一系列工藝條件下提供無與倫比的精度和可重復性。通過它,用戶能夠在整個處理任務中實現出色的控制,從而確保與每批產品的一致性。