二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus extremefill #293625748 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus極端填充反應器是一種先進的等離子體蝕刻工藝，用於制造超收縮晶體管和MOSFET。反應堆使用了CF4、CHF3、氦等氣體的組合，並使用氙氣作為預清潔劑對金屬進行蝕刻。這種由氣體和氙氣預清潔劑混合而成的各向同性蝕刻環境使得能夠在很寬的溫度範圍內嚴格控制鰭片輪廓。該反應器利用高密度等離子體，提供卓越的蝕刻性能和更高的吞吐量。這是通過提供具有卓越蝕刻均勻性的高等離子體密度來實現的。NOVELLUS Altus極端填充反應堆還利用獨特的氣體輸送設備，確保整個蝕刻室的氣體分布均勻。此功能結合NOVELLUS Advanced Process Control軟件,可以精確控制蝕刻過程。LAM RESEARCH Altus極端填充反應堆還采用微型源/排水技術（MDT）.此技術允許創建深度為½到8微米的源/排水結構,從而提供更緊密控制的散熱片輪廓,並具有卓越的深度控制和更高的功率效率。這項技術還可以消除源/排水結構中的熱點,從而提高設備的均勻性。Altus極端填充反應堆還通過其嵌入式數字智能監督和過程控制（DIPC）系統提供最先進的過程控制。此單元提供高級監視、診斷和調整,以確保最佳性能。該機器還有助於減少產品周期時間,提高產量和過程可重復性。最後，LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus極端填充反應器是一種先進的等離子體蝕刻工藝，用於制造超收縮晶體管和MOSFET。它利用高密度等離子體提供卓越的蝕刻性能和更高的吞吐量,同時還提供微型源/排水技術和數字智能監督及過程控制等尖端工藝控制功能。