二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #293754401 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一種下一代物理氣相沈積（PVD）設備，設計用於在高性能半導體應用中使用的基板上先進沈積薄膜。NOVELLUS Altus具有先進的真空室體系結構,旨在在高室通量下提供卓越的性能,非常適合先進的薄膜層,從而實現更快的沈積速率和更高的吞吐量。該系統兼具高吞吐量和低擁有成本以及低維護要求。LAM RESEARCH Altus采用NOVELLUS專利的「全能」雙反應堆技術，可以同時從兩個來源沈積。兩個源的組合使沈積速率比單一源單元更快，同時增加了均勻性。雙反應堆還允許用戶在基板頂部表面和底部表面的沈積之間切換，而無需更換產品所有者或等待重新加壓。Altus利用LAM先進的薄膜控制機，提供溫度、壓力和真空的集成反饋控制，允許用戶在沈積薄膜材料時精確控制多種變數。該控制工具還提供了對沈積均勻性、排斥率和均方根（RMS）粗糙度的出色控制。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus基材轉移資產提供高通量,同時最大限度地減少顆粒產生和汙染。它還提供了可重復、自動化、真空兼容的基板翻轉,從而實現了產品的快速變更。NOVELLUS Altus具有幾個先進的安全系統，包括真空友好型、大容量的滅火模型，以及先進的電氣機櫃監控。此機櫃控制還允許用戶在發生停機或其他系統幹擾時輕松監控和恢復設備健康。最後,LAM RESEARCH Altus在應用關鍵型PVD應用程序中實現了最高的工藝可靠性和卓越的性能,從而大大節省了成本。Altus是用於原型和生產應用的高性能PVD沈積的理想選擇。