二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9098899 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9098899
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
CVD System, 12"
Front UI
Signal tower
IOC(AWC AutoCal)
EFEM & vacuum robot AWC
Ceramic end effector
ATM Robot arm type: Friction
VAC Robot & controller: Mag7
VAC Robot arm type: Leap-frog
L/L Pin lift type: Servo motor
EC Controller
Podloader: Vision
Loadlock slit valve type: VAT
Chamber slit valve type: SMC
Main power box: MPD
TM Throttle valve: MKS with controller
TM Gate valve: MDC
L/L Manometer: MKS 100Torr
TM Manometer: MKS 100Torr
Foreline gauge
UPC: BROOKS 5866RT, 3SLM
WTS Ar MFC: Aera, 2SLM
ATM door type: VAT
Data server
IREPD
Throttle valve
Throttle valve controller
Gate valve: VAT
Spindle type (Air or Servo): Servo motor
Pedestal 1 Pin lift type(Air or Servo): Servo motor
F/S Pressure gauge: MKS 10 Torr
F/S Pressure gauge: MKS 100 Torr
Stn#2~4 B/S pressure gauge: MKS 100 Torr
Stn#1 B/S pressure gauge: MKS 100 Torr
IOC's: HDSIOC 0,1 and 2
ALD Valve monitoring kit
Remote plasma source: Astron e/ex
Pedestal
Shower head
UPC : BROOKS 5866RT, 3SLM
Gas box : LRW
MFC:
GF125CXXC
GF125CXXC
MFC K WF6 500
MFC J WF6 500
MFC N 5%B2H6/N2 500
MFC E WF6 500
MFC 5 WF6 500
MFC I NF3 1000
MFC 4 Ar 20000
MFC 3 H2 30000
MFC C Ar 20000
MFC 9 H2 30000
MFC 8 Ar 20000
MFC 1 Ar 5000
MFC 2 SiH4 500
MFC G SiH4 500
MFC F Ar 5000
MFC D Ar 20000
MFC P Ar 20000
MFC B N2 2000
MFC M Ar 20000
MFC X 5%B2H6/N2 750
2012 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一種多室真空等離子體化學氣相沈積（VPCVD）反應器，用於集成電路和半導體器件的制造。該反應堆適用於先進、高性能結構的大批量生產，能夠沈積厚度極均勻的薄膜，是制造尖端微電子器件的理想選擇。反應堆由多個通過輸送線連接的腔室組成。該室包括一個預清潔室、CVD室、蝕刻室、冷卻室和沈積室。預清洗室采用一種特殊的加熱順序，有助於通過濺射去除晶片表面的任何汙垢和氧化。其次是CVD室，其中包括單體或前體的反應物沈積在晶圓表面上。接著是等離子體蝕刻循環，它從晶圓表面去除了多余的化合物，並有助於達到優選的形狀。冷卻室配置為在轉移到沈積室前平衡晶圓的溫度。沈積室是發生初級薄膜沈積過程的地方。這是通過將放熱化學活性氣體的混合物通過晶圓表面來實現的。不斷監測和保持混合物，同時嚴格監測溫度、壓力和其他條件，以保證最佳沈積。沈積可以發生在亞微米到幾十微米的厚度取決於所需的結構。NOVELLUS Altus具有可靠和可重復的性能,可重現緊密的過程控制,具有低均勻性變化和極好的厚度均勻性,直至15nm以下分辨率。其高度自動化的批處理設計允許高生產吞吐量和最小的停機時間。該反應堆還具有出色的等離子體控制功能,旨在為先進的設備體系結構和結構（如FinFET、應變層、SOI結構）鋪平道路。
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