二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9255626 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是PECVD反應器（等離子體增強化學氣相沈積）的一種。它是半導體工業中用於將薄膜沈積到基板上的工具。適合於低溫沈積要求快速處理時間的應用。NOVELLUS Altus設備使用橫向射頻驅動的等離子體將所需材料的薄膜沈積在基板上。該系統的工作原理是將反應性氣體引入其加工室。經過一系列排氣過濾器後，氣體受到電子轟擊，導致其分解成反應性原子和分子。腔室的電池壁襯有高導電電極，產生一個有源射頻場。這允許沿著腔室的長度和寬度產生溫和的等離子體微放電，產生高能反應性物質，與進入的沈積氣體發生反應。由LAM RESEARCH Altus單元生產的沈積膜均勻無水，應力低，附著力優良。它能夠將介電、導電、金屬或抗菌薄膜沈積在多種底物上。該機具有內置的溫度和壓力監測功能，能夠現場監測沈積膜的厚度。這確保了處理過程中的一致性和可重復性。該工具還具有快速斜坡上升時間、低溫等離子體生成和減少處理時間等特點。腔室能夠達到高達450攝氏度的溫度，反應時間降低到幾秒鐘。它配備了用於遠程控制和監控的工具和配方管理軟件，以及用於優化和自動化的集中分析能力。Altus反應堆資產廣泛用於從高級封裝到MEMS設備，到高級電路集成等多種應用。這使得它成為半導體工業的絕佳底物。其低溫沈積能力使其成為加工MEMS結構等制圖和平面化過程的理想選擇，在這些過程中，較高的溫度會造成熱損傷。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus反應堆也很容易修改，以適應不同的沈積要求。其定制功能使其適合廣泛的應用。從功率放大器的絕緣子沈積到微流體系統的保護層沈積，NOVELLUS Altus反應器是半導體沈積的通用工具。