二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261404 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是微電子工業中用於半導體基板材料沈積的反應堆。它提供了高效的工藝將材料層，如柵極氧化物、光致抗蝕劑、聚酰亞胺和富氮氮化矽沈積到半導體基板上。NOVELLUS Altus反應堆利用多種技術沈積這些層，如化學氣相沈積（CVD）、低壓CVD（LPCVD）、物理氣相沈積（PVD）和電子回旋共振（ECR）。CVD工藝涉及氣體前體，它們在高溫下反應，在基板表面形成均勻的薄膜。LPCVD工藝是CVD的低溫變化，常用於厚或hi-k柵極氧化物。PVD過程涉及從源材料以濺射目標的形式將材料高能沈積到晶片上，通常在低壓下進行。最後，ECR涉及使用微波源使工藝氣體電離，產生等離子體，然後用於將層沈積在基板上。LAM RESEARCH Altus反應堆采用用戶界面構建，提供對其特性和設置的無縫訪問，方便為每一層定制沈積配方和工藝參數。反應堆還具有多區能力，允許最多八個不同的沈積過程同時運行，每個區最多四個不同的底物。此外,真空源的設計還可以保持工序室周圍的基本壓力,並提供快速的泵降時間,以提高生產率。Altus反應堆是在半導體基板上沈積材料的絕佳選擇，因為它為用戶提供了豐富的定制和自動化選項，以實現可靠和統一的結果。它的多區能力和快速泵降時間進一步提高了工藝效率，而且其用戶友好的界面使得反應堆的配置更容易獲得最佳效果。